特許
J-GLOBAL ID：200903056073931275

有機EL素子および有機EL素子の製造方法、並びに有機ELディスプレイ

発明者：
小川 浩充

小川 浩充 について


出願人/特許権者：
京セラ株式会社

京セラ株式会社 について


代理人 (3件)： 吉田 茂明 ,  吉竹 英俊 ,  有田 貴弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-087980
公開番号（公開出願番号）：特開2008-251626
出願日： 2007年03月29日
公開日（公表日）： 2008年10月16日
要約：
【課題】優れたキャリア注入効率が実現され、従来よりも低駆動電圧で発光輝度が高い有機EL素子及び有機ELディスプレイを提供する。【解決手段】基板11上に形成した陽極である下部電極12の上に、電子受容材料からなる層と、ホール輸送材料からなる層とを積層形成した後、積層構造体を、ホール輸送材料のガラス転移温度より30°C低い温度から、ホール輸送材料のガラス転移温度より200°C高い温度の範囲で加熱する。これにより、電子受容材料とホール輸送材料との酸化還元反応を生じさせて、電子受容層13aとホール輸送層13bの間に、電荷移動錯体を含む界面領域13cを生成させる。その後、発光層14と陰極である上部電極15とを順次形成する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
有機EL素子であって、 第1と第2の電極と、 前記第1及び第2の電極の間に設けられた発光層と、 を備え、 前記第1の電極と前記発光層との間に、前記第1の電極から注入されるキャリアの種類に応じて電子受容材料もしくは電子供与材料のいずれかから成るキャリア注入促進層と、前記キャリアを前記第1の電極から前記発光層へと輸送するキャリア輸送層と、前記キャリア注入促進層と前記キャリア輸送層との間に形成される界面領域とを有し、 前記界面領域は、前記キャリア注入促進層を構成するキャリア注入促進材料及び前記キャリア輸送層を構成するキャリア輸送材料が反応することにより生成された反応生成物からなる、 ことを特徴とする有機EL素子。
IPC (2件)：
H01L 51/50 ,  H05B 33/10
FI (4件)：
H05B33/22 A ,  H05B33/22 C ,  H05B33/10 ,  H05B33/14 A
Fターム (10件)：
3K107AA01 ,  3K107BB01 ,  3K107CC02 ,  3K107CC12 ,  3K107DD72 ,  3K107DD75 ,  3K107DD78 ,  3K107DD84 ,  3K107FF05 ,  3K107GG26
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (3件)

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