特許
J-GLOBAL ID：200903056238133131
光ファイバの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
石井 康夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-369050
公開番号（公開出願番号）：特開2002-234749
出願日： 2001年12月03日
公開日（公表日）： 2002年08月23日
要約：
【要約】【課題】 広帯域での使用においても、水素による損失増加が少なく、最適の水素処理で、効率よく安全に製造することができる光ファイバの製造方法を提供する。【解決手段】 赤外帯域の波長を使用波長帯とする光ファイバの製造方法であって、光ファイバ1を線引しボビン2に巻取った後で、使用に供される前に、濃度が0.05体積%以上、4.0体積%以下の水素含有雰囲気にさらすことを特徴とする。また、水素処理温度を50°C未満、好ましくは30°C以下とする。
請求項（抜粋）：
赤外帯域の波長を使用波長帯とする光ファイバの製造方法であって、光ファイバを線引しボビンに巻取った後で、使用に供される前に、濃度が0.05体積%以上、4.0体積%以下の水素含有雰囲気にさらすことを特徴とする光ファイバの製造方法。
IPC (3件)：
C03B 37/00
, C03C 13/04
, G02B 6/00 356
C03B 37/00 Z
, C03C 13/04
, G02B 6/00 356 A
4G021AA00
, 4G062AA06
, 4G062BB02
, 4G062LA03
, 4G062MM02
, 4G062NN40
