特許

J-GLOBAL ID：200903056270663347

汚染物質を除去する方法とその装置

発明者： 平山 研介
出願人/特許権者： 平山設備株式会社
代理人 (1件)： 朝倉 正幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-060615
公開番号（公開出願番号）：特開2005-249299
出願日： 2004年03月04日
公開日（公表日）： 2005年09月15日
要約：

【課題】 細菌類およびそれらの毒素、重症急性呼吸器症候群(SARS)などの病原性ウイルス類並びに化学薬品等の有害物質を、光触媒技術と空気清浄技術で無害化することにより、被害を皆無ないし最小限にとどめる。【解決手段】 仕切壁10で区画された2室以上の並列密閉空間A室、B室を形成させ、各室に給気ダクト11と還気ダクト12を取付ける。抗菌加工空間内に抗菌加工し、浮遊塵埃センサ22を取付ける。還気ダクト12に設けた外気取入口13の下流に滅菌・除菌用の紫外線殺菌灯内蔵の化学フィルタ18と空気浄化のため空気清浄器20とからなる空気浄化装置17を配置する。室内に設けた浮遊塵埃センサ22によって浮遊塵埃の粒径・数量を検出し、その検出値が所定値を超えたときには、コンピュータ24を介して塵埃表示器25を点灯させる。最重要施設に対しては、個別滅菌・清浄化ゲートを併設し、多数回循環させることで浄化能力を向上させる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

化学フィルタと空気清浄器とからなる空気浄化装置で処理した清浄空気を、抗菌加工した空間と非抗菌加工の空間とを隣接させた2室以上の並列密閉空間へ供給して、換気を重ねることを特徴とする汚染物質を除去する方法。

IPC (5件)：

F24F3/16 ,  A61L9/00 ,  A61L9/01 ,  A61L9/20 ,  A62D3/00

FI (8件)：

F24F3/16 ,  A61L9/00 C ,  A61L9/01 M ,  A61L9/20 ,  A62D3/00 143 ,  A62D3/00 300 ,  A62D3/00 610 ,  A62D3/00 653

Fターム (22件)：

2E191BA11 ,  2E191BC01 ,  2E191BD13 ,  2E191BD17 ,  3L053BD02 ,  3L053BD03 ,  3L053BD05 ,  4C080AA03 ,  4C080AA07 ,  4C080AA10 ,  4C080BB02 ,  4C080BB05 ,  4C080CC01 ,  4C080JJ01 ,  4C080KK08 ,  4C080LL10 ,  4C080QQ11 ,  4D058SA13 ,  4D058SA20 ,  4D058TA06 ,  4D058TA08 ,  4D058UA25

引用特許：

審査官引用 (2件)

• クリーンルーム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-305699   出願人：鹿島建設株式会社
• 無菌室ユニット
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-339362   出願人：三機工業株式会社