特許

J-GLOBAL ID：200903056354800986

微小構造体の製造方法

発明者： ホルガー ラインエッケ ,  ノルベルト カピッツァ ,  ラルフ-ウルリッヒ バルホルン ,  ウルリケ シュピッツナー ,  ベルンハルト シェーファーマイヤー
出願人/特許権者： マイクロパーツ ゲゼルシャフト フュア ミクロストルクトゥーアテヒニク ミット ベシュレンクテル ハフツング
代理人 (1件)： 矢野 敏雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-264934
公開番号（公開出願番号）：特開平11-160871
出願日： 1998年09月18日
公開日（公表日）： 1999年06月18日
要約：

【要約】【課題】 数μm〜mmの範囲の構造深さを有する微小構造体の製造方法。【解決手段】 ポリマーを原図下でX線で照射しかつ可溶性になった又は可溶性状態にあった部分を選択的に溶解することによって微小構造体を製造する方法において、ポリマーとして光-及び紫外線硬化性のエポキシド塗料を使用する。【効果】 該微小構造は大きいアスペクト比を有しかつ大きな構造深さでも欠陥なく現像されうる。構造精度はサブミクロンの範囲にある。

請求項（抜粋）：

ポリマーをX線で原図下で照射しかつ可溶性になった又は可溶性状態にあった部分を選択的に溶解することによって数μm〜mmの範囲の構造深さを有する微小構造体を製造する方法において、ポリマーとして光-及び紫外線硬化性のエポキシド塗料を使用することを特徴とする、微小構造体の製造方法。

IPC (5件)：

G03F 7/027 515 ,  B62D 57/00 ,  G03F 7/038 503 ,  G03F 7/32 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 7/027 515 ,  G03F 7/038 503 ,  G03F 7/32 ,  B62D 57/00 G ,  H01L 21/30 531 E

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 感光性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-322311   出願人：三洋化成工業株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-039926   出願人：日本合成ゴム株式会社
• 寸法比の大きい微小パターン構造体の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-036310   出願人：ビーエーエスエフアクチエンゲゼルシヤフト