特許
J-GLOBAL ID：200903056543183092
偏光器および偏光器を備えたマイクロリソグラフィー投影システム
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
田辺 徹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-144608
公開番号（公開出願番号）：特開2003-035822
出願日： 2002年05月20日
公開日（公表日）： 2003年02月07日
要約：
【要約】【課題】 単純なデザインで、低い製造原価と高い透過率を可能にする。【解決手段】 直線偏光されたあるいは円偏光された入射光を、半径方向あるいは接線方向に偏光された射出光に、実質上、透過損失なく変換するに適した偏光器は、その実施の態様のうちの一つにおいて、複屈折材料から作られた板を有し、その入口面および出口面の上に、回折格子あるいはフレネル表面の形状の偏向構造(8,9)を備えた小さなゾーン(11,12)が作成されている。前記複屈折材料の結晶軸(5)は入射光束と平行に整列されている。前記偏向構造は、前記結晶軸(5)に対して傾斜した透過方向(13)に沿った光を偏向し、透過した光のフィールド構成要素間の移相を引き起こす。
請求項（抜粋）：
光学軸に沿って入射する光束を、その断面上で、局部的に変化する偏光状態の、所定の分布を有する射出光束へ変換するための偏光器であって:少なくとも一つの複屈折素子(4,31〜34)は、相互に直交偏光された、透過光のフィールド構成要素間で移相の生成を目的として、結晶軸(5,39,40,41)および有限軸厚(D)を有し;前記偏光器の照明された断面は、多数のゾーン(10,11,12,20,21,22,35〜38)に細分され;少なくとも一つの前記ゾーンは、光に対するその透過方向(13,43)が、前記ゾーン内の前記ゾーンの前記結晶軸(5,39,40,41)に関して傾斜され、かつ前記透過方向および前記結晶軸により規定された透過平面に位置するように形成された前記偏光器において;前記ゾーンの軸厚(D)および傾斜角度(NW)は、前記ゾーン内の前記フィールド構成要素の光路長の差が、前記偏光器の射出における所定の相対的位相遅れに一致するように整合され、すべてのそのようなゾーン(35〜38)の透過平面(13,43)の配向性は、所望の局部的な好ましい偏光方向が前記ゾーン内に存在するように予備整列されることを特徴とする、偏光器。
IPC (5件)：
G02B 5/30
, G02B 27/18
, G02B 27/28
, G03F 7/20 521
, H01L 21/027
G02B 5/30
, G02B 27/18 Z
, G02B 27/28 Z
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 515 D
2H049BA08
, 2H049BA42
, 2H049BC21
, 2H099AA11
, 2H099BA09
, 2H099CA05
, 5F046CB15
