特許

J-GLOBAL ID：200903056583390899

基板処理装置

発明者： 木▲崎▼ 幸治
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 小谷 悦司 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-176348
公開番号（公開出願番号）：特開平10-022204
出願日： 1996年07月05日
公開日（公表日）： 1998年01月23日
要約：

【要約】【課題】 基板の処理状況等に応じた適切なタイミングで洗浄装置を作動させることにより、基板の処理効率を確保しつつパーティクルの発生を防止する。【解決手段】 スピンコーターの回転テーブル32上に移載された基板Wに液供給装置35によりフォトレジスト液を塗布し、回転テーブル32と一体に基板Wを回転させながら基板表面に薄膜を形成するようにコーターユニット14を構成した。また、コーターユニット14に、液供給装置35のレジスト液塗布用のノズル38を洗浄するノズル洗浄装置42と、回転テーブル32の吸着部33を洗浄するテーブルクリーナー75と、スピンコーターのカップ34等を洗浄するための外周リンスノズル55等のカップ洗浄のための装置を設け、これらの各洗浄装置をコーターユニット制御部101によりそれぞれ基板Wの処理状況、各洗浄装置の機能、あるいは洗浄箇所等に応じたタイミングで作動させるようにした。

請求項（抜粋）：

複数の処理部に基板を搬出入しながら処理を施すことにより基板表面に薄膜を形成するとともに、処理により装置へ付着した不要な付着物を洗浄除去する複数の洗浄手段を備えた基板処理装置において、上記各洗浄手段の作動タイミングをそれぞれ設定可能にするタイミング設定手段と、このタイミング設定手段で設定された作動タイミングで上記各洗浄手段をそれぞれ作動させる洗浄制御手段とを具備したことを特徴とする基板処理装置。

IPC (6件)：

H01L 21/027 ,  H01L 21/02 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/68 ,  G03F 7/30

FI (8件)：

H01L 21/30 569 D ,  H01L 21/02 Z ,  H01L 21/304 341 N ,  H01L 21/304 341 S ,  H01L 21/68 A ,  G03F 7/30 ,  H01L 21/30 564 C ,  H01L 21/30 569 C

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 塗布装置及びその方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-242227   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
• 特開昭60-137017
  
• 処理液塗布装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-215340   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 特開平2-115066
  

審査官引用 (4件)

• 塗布装置及びその方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-242227   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
• 特開昭60-137017
  
• 処理液塗布装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-215340   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 特開平2-115066