特許
J-GLOBAL ID：200903056624162154
プラズマ処理装置およびそれを用いた加工方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (8件)：
社本 一夫
, 小野 新次郎
, 千葉 昭男
, 神田 藤博
, 内田 博
, 星野 修
, 宮前 徹
, 山崎 幸作
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-092789
公開番号（公開出願番号）：特開2007-266522
出願日： 2006年03月30日
公開日（公表日）： 2007年10月11日
要約：
【課題】ガスパルスを用いたプラズマ加工において、反応生成物を迅速に除去し、均一性の高いエッチングを高速で行うことができるプラズマ処理装置及び加工方法の提供。【解決手段】プラズマ処理装置9は、プラズマを生成するプラズマ生成室1と、被加工物6が設置される加工室5と、プラズマ生成室1内に時間的に間欠的に加工用ガスを導入するガス導入部(パルスノズル)101とを備える。ガス導入部101からプラズマ生成室1内に時間的に間欠的に加工用ガスを導入することによって衝撃波を発生させ、この衝撃波によって被加工物6表面に滞留する反応生成物を除去する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
プラズマを生成するプラズマ生成室と、被加工物が設置される加工室と、前記プラズマ生成室内に時間的に間欠的に加工用ガスを導入するガス導入部とを備え、該ガス導入部から前記プラズマ生成室内に時間的に間欠的に加工用ガスを導入することによって衝撃波を発生させ、該衝撃波によって被加工物表面に滞留する反応生成物を除去するように構成されていることを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (13件)：
5F004AA14
, 5F004BA05
, 5F004BA14
, 5F004BA20
, 5F004BB11
, 5F004BB13
, 5F004BB28
, 5F004BC02
, 5F004CA01
, 5F004CA02
, 5F004CA03
, 5F004DB02
, 5F004DB03
