特許
J-GLOBAL ID：200903056635452529

二酸化炭素を精製する方法。

発明者：
アルバレス,ダニエル,ジユニア

アルバレス,ダニエル,ジユニア について

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スピーゲルマン,ジエフリー・ジエイ

スピーゲルマン,ジエフリー・ジエイ について

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ホルムズ,ラツセル・ジエイ

ホルムズ,ラツセル・ジエイ について


出願人/特許権者：
マイクロリス・コーポレイシヨン

マイクロリス・コーポレイシヨン について


代理人 (4件)： 川口 義雄 ,  小野 誠 ,  大崎 勝真 ,  坪倉 道明
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-545470
公開番号（公開出願番号）：特表2006-502957
出願日： 2003年10月16日
公開日（公表日）： 2006年01月26日
要約：
本発明は、半導体工業において使用するのに十分な不純物水準にまでCO2を除染するための方法である。本発明は、汚染物の除去に適した条件下で、少なくとも1種の金属の組み合わせ金属状態に流体CO2を曝すことを含む。次いで、各吸着剤を除染/活性化することにより、吸着剤を混合酸化状態に戻し、さらなる回数の除染を可能にする。各吸着剤は、互いに補完し合い、別々の汚染物を選択的に吸着するように選択される。加えて、各吸着剤は、再生時に金属の一部のみが還元され、その1種の吸着剤が元の状態に戻されるように、異なる程度の還元を受ける。
請求項（抜粋）：
二酸化炭素(CO2)の流れを、ある分量の少なくとも1種の混合金属酸化物に、ある一定時間接触させて、前記流れの汚染物含有量を減少させることを含む、CO2の流れから汚染物を除去する方法。
IPC (3件)：
C01B 31/20 ,  B01J 20/06 ,  B01J 20/34
FI (3件)：
C01B31/20 B ,  B01J20/06 B ,  B01J20/34 H
Fターム (32件)：
4G066AA15B ,  4G066AA18B ,  4G066AA23B ,  4G066AA24B ,  4G066AA26B ,  4G066AA27B ,  4G066AA28B ,  4G066AE16B ,  4G066AE17B ,  4G066CA22 ,  4G066CA29 ,  4G066CA37 ,  4G066CA41 ,  4G066CA43 ,  4G066CA45 ,  4G066CA51 ,  4G066DA05 ,  4G066FA18 ,  4G066FA21 ,  4G066FA34 ,  4G066GA01 ,  4G066GA32 ,  4G146JA02 ,  4G146JB04 ,  4G146JC22 ,  4G146JC23 ,  4G146JC30 ,  4G146JC40 ,  4G146JD04 ,  4G146JD05 ,  4G146JD06 ,  4G146JD10
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (5件)
  • 二酸化炭素の精製方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-078522   出願人：日本パイオニクス株式会社
  • 特開昭61-151013
  • 気体流からの硫化水素の除去方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-097785   出願人：フイリツプスピトローリアムカンパニー
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