特許
J-GLOBAL ID：200903056651430110

光学部品用洗浄液組成物

発明者：
岡田 知巳

岡田 知巳 について

, 
松下 景太

松下 景太 について


出願人/特許権者：
株式会社ジャパンエナジー

株式会社ジャパンエナジー について


代理人 (1件)： 藤吉 一夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-041091
公開番号（公開出願番号）：特開2002-241794
出願日： 2001年02月19日
公開日（公表日）： 2002年08月28日
要約：
【要約】【課題】 ワックス、ピッチ、接着剤などが付着した光学部品を洗浄する洗浄液であって、環境に与える影響が少なく、取り扱い上の規制も少なく、光学部品へのダメージもなく、かつ、十分な洗浄性を有する洗浄液組成物の提供。【解決手段】 (A)ラクタムからなる成分Aを30〜70重量%と、(B)次の化1に示すエーテル化合物あるいは炭素数8〜14の炭化水素、もしくはこれらの混合物からなる成分Bを70〜30重量%とを含有する光学部品用洗浄液組成物。【化1】R1-O-(R2-O)n-R3ここで、R1は炭素数1〜3のアルキル基、R2は炭素数2〜6のアルキレン基、R3は炭素数1〜3のアルキル基、アルキルカルボキシル基または水素、nは1〜4である。
請求項（抜粋）：
(A)ラクタムからなる成分Aを30〜70重量%と、(B)次の化1に示すエーテル化合物あるいは炭素数8〜14の炭化水素、もしくはこれらの混合物からなる成分Bを70〜30重量%とを含有する光学部品用洗浄液組成物。【化1】R1-O-(R2-O)n-R3ここで、R1は炭素数1〜3のアルキル基、R2は炭素数2〜6のアルキレン基、R3は炭素数1〜3のアルキル基、アルキルカルボキシル基または水素、nは1〜4である。
IPC (8件)：
C11D 7/32 ,  C11D 7/24 ,  C11D 7/26 ,  C11D 7/50 ,  C11D 17/08 ,  G02B 1/10 ,  G02B 3/00 ,  G02C 13/00
FI (8件)：
C11D 7/32 ,  C11D 7/24 ,  C11D 7/26 ,  C11D 7/50 ,  C11D 17/08 ,  G02B 3/00 Z ,  G02C 13/00 ,  G02B 1/10 Z
Fターム (16件)：
2H006DA07 ,  2H006DA09 ,  2K009BB02 ,  2K009BB06 ,  2K009DD12 ,  2K009EE00 ,  4H003BA12 ,  4H003DA16 ,  4H003DB03 ,  4H003ED03 ,  4H003ED29 ,  4H003ED31 ,  4H003FA01 ,  4H003FA03 ,  4H003FA21 ,  4H003FA45
引用特許：
審査官引用 (11件)
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