特許

J-GLOBAL ID：200903056740703626

昇華精製装置、昇華精製方法および昇華精製された有機化合物を使用した素子

発明者： 戸谷 由之 ,  島村 武彦 ,  石田 努 ,  田辺 良満 ,  中塚 正勝
出願人/特許権者： 三井化学株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-282609
公開番号（公開出願番号）：特開2003-088704
出願日： 2001年09月18日
公開日（公表日）： 2003年03月25日
要約：

【要約】【課題】有機電界発光素子等に使用される有機化合物を、効率的(高収率、短時間)に高純度にするための昇華精製装置を提供する。【解決手段】真空チャンバー内に熱源を設置し、該熱源により加熱された有機化合物を真空チャンバー内の熱源と別の位置に配置された捕集室に昇華捕集することからなる昇華精製装置、該昇華精製装置を使用した昇華精製方法、および、該方法により昇華精製された有機化合物を使用した素子。

請求項（抜粋）：

真空チャンバー内に熱源を設置し、該熱源により加熱された有機化合物を真空チャンバー内の熱源と別の位置に配置された捕集室に昇華捕集することからなる昇華精製装置。

IPC (4件)：

B01D 7/00 ,  B01D 7/02 ,  H05B 33/14 ,  H05B 33/22

FI (4件)：

B01D 7/00 ,  B01D 7/02 ,  H05B 33/14 A ,  H05B 33/22 D

Fターム (21件)：

3K007AB03 ,  3K007AB11 ,  3K007CA01 ,  3K007CB01 ,  3K007DA01 ,  3K007DB03 ,  3K007EB00 ,  3K007FA00 ,  4D076AA07 ,  4D076AA14 ,  4D076AA22 ,  4D076BD07 ,  4D076CA19 ,  4D076CD22 ,  4D076DA21 ,  4D076DA22 ,  4D076DA23 ,  4D076DA27 ,  4D076DA28 ,  4D076HA12 ,  4D076JA03

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭64-070102
  
• 特開昭62-106833
  
• 昇華精製方法及び装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-272147   出願人：新日鐵化学株式会社, 大阪油化工業株式会社
• 真空精製装置及びその方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-023415   出願人：日本真空技術株式会社