特許

J-GLOBAL ID：200903056892713430

遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物

発明者： 佐藤 健一郎 ,  児玉 邦彦 ,  青合 利明
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 萩野 平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-152861
公開番号（公開出願番号）：特開2000-338680
出願日： 1999年05月31日
公開日（公表日）： 2000年12月08日
要約：

【要約】【課題】 250nm以下、特に220nm以下の露光光源の使用に好適であり、250nm以下、特に220nm以下の露光光源の使用時に、高解像力を有し、かつパターンのエッジラフネスが改良されたポジ型感光性組成物を提供することである。【解決手段】 活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、特定の多環型の脂環式基を有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解性を増大させる基とを有する樹脂、及び特定の化合物を含有するポジ型感光性組成物。

請求項（抜粋）：

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、(B)下記一般式(I)で表される繰り返し単位を有し、かつ酸の作用により分解し、アルカリに対する溶解性が増大する樹脂、及び(C)下記一般式(CI)又は(CII)で表される化合物を含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。【化1】式(I)中:R1は、水素原子、ハロゲン原子又は1〜4個の炭素原子を有する直鎖もしくは分岐のアルキル基を表す。R2〜R4は、各々独立に、水素原子又は水酸基を表す。ただし、R2〜R4のうち少なくとも1つは、水酸基を表す。【化2】式(CI)中、Xは、-O-、-S-、-N(R53)-、又は単結合を表し、R51、 R52、 R53は、各々独立に水素原子又はアルキル基を表し、R′は-COOR′で酸分解性基を構成する基を表す。Rは、有橋式炭化水素基又はナフタレン環を含むn1価の残基を表す。式(CII)中、R60は水素原子又はアルキル基を表し、R61は-O-R61で酸分解性基を構成する基を表し、m1 、n1 、p1 は、各々独立に、1〜4の整数を示し、q1は0〜10の整数を示す。

IPC (3件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/027 502 ,  C08F 20/12

FI (3件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/027 502 ,  C08F 20/12

Fターム (41件)：

2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA09 ,  2H025AA14 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CC20 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA02Q ,  4J100BA03P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA16P ,  4J100BA40P ,  4J100BA41P ,  4J100BB01P ,  4J100BB03P ,  4J100BB05P ,  4J100BB07P ,  4J100BC01P ,  4J100BC01Q ,  4J100BC04P ,  4J100BC04Q ,  4J100BC07P ,  4J100BC07Q ,  4J100BC08P ,  4J100BC08Q ,  4J100BC09P ,  4J100BC09Q ,  4J100BC12P ,  4J100BC12Q ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 遠紫外線用ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-353795   出願人：ソニー株式会社
• 放射線感光材料及びそれを用いたパターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-282664   出願人：ダイセル化学工業株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-074718   出願人：ジェイエスアール株式会社