露光装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：伊藤進
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-346753
公開番号（公開出願番号）：特開2001-168003
出願日： 1999年12月06日
公開日（公表日）： 2001年06月22日
要約：

【要約】【課題】解像度を劣化させずに広い表示領域を確保した画像表示手段を用い解像度の高い回路パターン像を基板上に形成させながら安価でかつ確実な露光動作を確保した露光装置を提供する。【解決手段】一回路パターンを基板6上のレジスト面に投影して露光する露光装置1において、一回路パターンを複数の領域に分割する際に隣接する領域間で一部の領域が互いに重複するように分割する処理手段8と、複数の分割領域の一分割領域を基板上のレジスト面に投影する複数の光学系3aを備えた露光手段2と、隣接する領域の互いの重複領域を基板上のレジスト面上で重ね合わせるように、露光手段により一度に複数の分割領域をレジスト面に投影させることで一回路パターンの像を基板上のレジスト面に形成させる制御手段8とを具備する。

請求項（抜粋）：

一回路パターンを基板上のレジスト面に投影して露光する露光装置において、一回路パターンを複数の領域に分割する際に隣接する領域間で一部の領域が互いに重複するように分割する処理手段と、複数の分割領域の一分割領域を上記基板上のレジスト面に投影する光学系を複数備えた露光手段と、隣接する領域の互いの重複領域を上記基板上のレジスト面上で重ね合わせながら上記露光手段により一度に複数の分割領域を上記レジスト面に投影させることで、一回路パターンの像を上記基板上のレジスト面に形成させる制御手段と、を具備したことを特徴とする露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521 , G03F 9/00

FI (5件)：

G03F 7/20 521 , G03F 9/00 H , H01L 21/30 514 C , H01L 21/30 514 A , H01L 21/30 525 F

Fターム (25件)：

5F046AA11 , 5F046BA03 , 5F046BA08 , 5F046CA03 , 5F046CB09 , 5F046CB12 , 5F046CB18 , 5F046CB23 , 5F046CB25 , 5F046CC01 , 5F046CC02 , 5F046CC15 , 5F046EA02 , 5F046EB01 , 5F046EB02 , 5F046ED01 , 5F046FA03 , 5F046FA10 , 5F046FA14 , 5F046FB08 , 5F046FB09 , 5F046FB10 , 5F046FB13 , 5F046FB20 , 5F046FC06

引用特許：

審査官引用 (6件)

特開昭60-134240
投影露光方法および装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-267182 出願人：株式会社日立製作所
露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-073029 出願人：ローム株式会社

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