特許

J-GLOBAL ID：200903057001797244

ポリオルガノシロキサン微粒子の製造方法および液晶表示装置

発明者： 石 窪 隆 文 ,  中 山 和 洋 ,  小 柳 嗣 雄 ,  小 松 通 郎
出願人/特許権者： 触媒化成工業株式会社
代理人 (1件)： 鈴木 俊一郎 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-318360
公開番号（公開出願番号）：特開2000-204168
出願日： 1999年11月09日
公開日（公表日）： 2000年07月25日
要約：

【要約】【課題】液晶セルの電極間の面内部および/またはシール用スペーサとして用いたときに、液晶セルの電極間距離、およびセルギャップ、すなわち液晶セルの電極間に形成された液晶層の厚さを均一に保持することが可能なポリオルガノシロキサン微粒子を極めて効率的に製造する方法を提供する。【解決手段】疎水性の表面を有するシード粒子と界面活性剤とを含むシード粒子分散液に、下記式(1)で表される有機ケイ素化合物を添加し、アルカリの存在下に該有機ケイ素化合物を加水分解してシード粒子を成長させることを特徴とするポリオルガノシロキサン微粒子の製造方法。R1nSi(OR2)4-n ...(1)(式中、R1は、置換または非置換の炭化水素基から選ばれる炭素数1〜10の有機基であり、R2は、水素原子またはアルキル基、アルコキシアルキル基およびアシル基から選ばれる炭素数1〜10の有機基であり、nは0〜3の整数である。)

請求項（抜粋）：

疎水性の表面を有するシード粒子と界面活性剤とを含むシード粒子分散液に、下記式(1)で表される有機ケイ素化合物を添加し、アルカリの存在下に該有機ケイ素化合物を加水分解してシード粒子を成長させることを特徴とするポリオルガノシロキサン微粒子の製造方法。R1nSi(OR2)4-n (1)(式中、R1は、置換または非置換の炭化水素基から選ばれる炭素数1〜10の有機基であり、R2は、水素原子またはアルキル基、アルコキシアルキル基およびアシル基から選ばれる炭素数1〜10の有機基であり、nは0〜3の整数である。)

IPC (4件)：

C08J 3/16 CFH ,  C08G 77/06 ,  C08G 77/14 ,  G02F 1/1339 500

FI (4件)：

C08J 3/16 CFH ,  C08G 77/06 ,  C08G 77/14 ,  G02F 1/1339 500

引用特許：

審査官引用 (2件)

• シリコーン微粒子およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-338028   出願人：信越化学工業株式会社
• ポリオルガノシロキサン微粒子の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-268084   出願人：宇部日東化成株式会社