特許
J-GLOBAL ID：200903057033997687
液処理方法及びその装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
中本 菊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-227362
公開番号（公開出願番号）：特開平10-064869
出願日： 1996年08月12日
公開日（公表日）： 1998年03月06日
要約：
【要約】【課題】 薬液供給ノズルに残留する薬液の除去、リンス性能及びスループットの向上、装置の小型化を図れるようにすること。【解決手段】 処理液供給手段をジェットノズル40にて形成し、ジェットノズル40の底面40cを薬液の供給側から先端に向かって下り勾配に傾斜させると共に、先端側に排液孔40d及びドレン弁54を介してドレン管55を接続する。ジェットノズル40から薬液を供給して半導体ウエハWに薬液を接触させて処理を施した後、このジェットノズル40に純水又はN2ガス等の薬液除去用気体を供給してジェットノズル40に残留する薬液を除去し、純水を半導体ウエハWに接触させて洗浄処理を行う。
請求項（抜粋）：
被処理体に処理液を接触させて所定の処理を施した後、上記被処理体に洗浄液を接触させて洗浄処理する液処理方法において、供給手段から上記処理液を供給して上記被処理体に処理液を接触させて処理を施した後、この供給手段に流体を供給して供給手段に残留する処理液を除去し、洗浄液を上記被処理体に接触させて洗浄処理を行うことを特徴とする液処理方法。
IPC (2件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/304
H01L 21/304 341 N
, H01L 21/304 341 T
