特許
J-GLOBAL ID：200903057065826841

インクジェット式記録ヘッド及びその製造方法並びにインクジェット式記録装置

発明者：
松沢 明

松沢 明 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (1件)： 栗原 浩之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-222064
公開番号（公開出願番号）：特開2001-047626
出願日： 1999年08月05日
公開日（公表日）： 2001年02月20日
要約：
【要約】【課題】 高密度且つ各圧力発生室間のクロストークを低減したインクジェット式記録ヘッド及びその製造方法並びにインクジェット式記録装置を提供する。【解決手段】 ノズル開口21に連通する圧力発生室12が画成されるシリコン単結晶基板10と、前記圧力発生室12の一部を構成する振動板50を介して前記圧力発生室12に対向する領域に設けられて前記圧力発生室内12に圧力変化を生じさせる圧電素子300とを具備するインクジェット式記録ヘッドにおいて、前記圧力発生室12が前記シリコン単結晶基板10を異方性エッチングすることにより当該シリコン単結晶基板10を貫通することなしに形成され且つ前記圧電素子300を成膜及びリソグラフィ法により形成された薄膜により構成する。
請求項（抜粋）：
ノズル開口に連通する圧力発生室が画成されるシリコン単結晶基板と、前記圧力発生室の一部を構成する振動板を介して前記圧力発生室に対向する領域に設けられて前記圧力発生室内に圧力変化を生じさせる圧電素子とを具備するインクジェット式記録ヘッドにおいて、前記圧力発生室が前記シリコン単結晶基板を異方性エッチングすることにより前記シリコン単結晶基板を貫通することなしに形成され且つ前記圧電素子が成膜及びリソグラフィ法により形成された薄膜により構成されたものであることを特徴とするインクジェット式記録ヘッド。
IPC (3件)：
B41J 2/045 ,  B41J 2/055 ,  B41J 2/16
FI (2件)：
B41J 3/04 103 A ,  B41J 3/04 103 H
Fターム (15件)：
2C057AF34 ,  2C057AF40 ,  2C057AF93 ,  2C057AG42 ,  2C057AG44 ,  2C057AP11 ,  2C057AP14 ,  2C057AP33 ,  2C057AP34 ,  2C057AP37 ,  2C057AP52 ,  2C057AP57 ,  2C057AQ02 ,  2C057BA04 ,  2C057BA14
引用特許：
審査官引用 (7件)
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