表面処理方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：村上友一 , 大久保操
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-110679
公開番号（公開出願番号）：特開2005-288398
出願日： 2004年04月05日
公開日（公表日）： 2005年10月20日
要約：

【課題】プラズマを用いて被処理物の洗浄処理や殺菌処理を行う表面処理方法を提供する。【解決手段】表面処理方法は、大気中にプラズマ生成装置10を置き、プラズマ生成装置10の円筒電極12内に空気や酸素等の気体を導入し、前記円筒電極12の中心部に配置した中心電極20と円筒電極12に電力を供給して、中心電極20の周囲に局所的アークにより生成したプラズマが前記円筒電極12に達しないプラズマ流を生成し、このプラズマ流に被処理物を曝して表面の洗浄処理や殺菌処理を行う構成とした。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

円筒電極内に気体を導入し、前記円筒電極の中心部に配置した中心電極の周囲に、局所的アークにより生成したプラズマが前記円筒電極に達しないプラズマ流を生成して、被処理物に照射することを特徴とする表面処理方法。

IPC (5件)：

B01J19/08 , A61L2/14 , B08B7/00 , C23G5/00 , H05H1/32

FI (5件)：

B01J19/08 E , A61L2/14 , B08B7/00 , C23G5/00 , H05H1/32

Fターム (20件)：

3B116AA21 , 3B116BC01 , 4C058AA06 , 4C058AA25 , 4C058BB06 , 4C058KK06 , 4C058KK11 , 4G075AA30 , 4G075AA42 , 4G075BA08 , 4G075CA47 , 4G075DA01 , 4G075EB41 , 4G075EC21 , 4K053PA18 , 4K053QA04 , 4K053QA07 , 4K053SA01 , 4K053SA11 , 4K053XA50

引用特許：

出願人引用 (1件)

大気圧低温プラズマ殺菌方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-232016 出願人：四国化工機株式会社, 鯉沼秀臣, 内藤寿夫

審査官引用 (5件)

直流アーク放電プラズマによる表面処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-282521 出願人：奥井徳次郎
特開昭63-215374
アークプラズマ加熱装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-193878 出願人：三木将夫, 山川悦男

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