特許
J-GLOBAL ID:200903057117132231

局所空間の汚染防止方法及び装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 吉嶺 桂 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-031230
公開番号(公開出願番号):特開平9-168722
出願日: 1996年01月26日
公開日(公表日): 1997年06月30日
要約:
【要約】【課題】 有機性ガスによる汚染を効果的に防止できる局所空間の汚染防止方法と装置を提供する。【解決手段】 局所空間の有機性ガスによる汚染を防止する装置において、前記局所空間例えばクリーンルーム11の一部を光触媒材13で構成すると共に、該光触媒材に光を照射する手段16を設けたものであり、前記光触媒としてはTiO2 又はTiO2 にPt、Ag、Pd、RuO2 、Co3 O4 から選ばれた一種以上を添加して用いることができ、また、光を照射する手段としては紫外線ランプ16、蛍光灯等を用いることができ、これにより、発生した有害な有機性ガス19を無害なガス20として空間内を超清浄化できる。
請求項(抜粋):
局所空間における有機性ガスによる汚染を防止する方法において、前記局所空間の一部を光触媒で構成し、該光触媒に光を照射することを特徴とする局所空間の汚染防止方法。
IPC (9件):
B01D 53/86 ZAB ,  B01D 53/86 ,  B01J 21/06 ,  B01J 23/42 ,  B01J 23/46 301 ,  B01J 23/50 ,  B01J 23/75 ,  H01L 21/02 ,  B01L 1/04
FI (9件):
B01D 53/36 ZAB G ,  B01J 21/06 A ,  B01J 23/42 A ,  B01J 23/46 301 A ,  B01J 23/50 A ,  H01L 21/02 D ,  B01L 1/04 ,  B01D 53/36 J ,  B01J 23/74 311 A
引用特許:
審査官引用 (3件)

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