特許

J-GLOBAL ID：200903057203196960

深紫外光源及び、その深紫外光源を用いたマスク検査装置及び露光装置

発明者： 武久 究
出願人/特許権者： レーザーテック株式会社
代理人 (1件)： 家入 健
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-026282
公開番号（公開出願番号）：特開2007-206452
出願日： 2006年02月02日
公開日（公表日）： 2007年08月16日
要約：

【課題】 室温で動作することが可能な深紫外光を効率良く発生できるレーザ光源を提供することであり、また、この深紫外光レーザ光源により、高い欠陥検出感度を有する小型で安定したマスク検査装置及び露光装置を提供することを目的とする。【解決手段】 波長0.90μm以上0.92μm以下のレーザ光を出射する固体レーザと、前記固体レーザから取り出された波長0.90μm以上0.92μm以下のレーザ光の第4高調波を発生させる第4高調波発生部と、前記第4高調波発生部で発生した第4高調波と、波長1.3μm帯のレーザ光との和周波の光を発生させる和周波発生部とを備える深紫外光源。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

波長0.90μm以上0.92μm以下のレーザ光を出射する固体レーザと、 前記固体レーザから取り出された波長0.90μm以上0.92μm以下のレーザ光の第4高調波を発生させる第4高調波発生部と、 前記第4高調波発生部で発生した第4高調波と、波長1.3μm帯のレーザ光との和周波の光を発生させる和周波発生部とを備える深紫外光源。

IPC (4件)：

G02F 1/37 ,  H01S 3/109 ,  H01S 3/108 ,  H01S 3/16

FI (4件)：

G02F1/37 ,  H01S3/109 ,  H01S3/108 ,  H01S3/16

Fターム (24件)：

2K002AB12 ,  2K002BA04 ,  2K002CA02 ,  2K002EA10 ,  2K002HA19 ,  2K002HA20 ,  5F172AD06 ,  5F172AE01 ,  5F172AE08 ,  5F172AE09 ,  5F172AF02 ,  5F172CC07 ,  5F172DD03 ,  5F172EE13 ,  5F172NN13 ,  5F172NN24 ,  5F172NQ09 ,  5F172NQ23 ,  5F172NQ33 ,  5F172NQ35 ,  5F172NQ62 ,  5F172NR12 ,  5F172NR24 ,  5F172ZZ02

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 異物検査装置及び異物検査方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-083883   出願人：ソニー株式会社
• 半導体製造装置および半導体装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-025890   出願人：株式会社日立製作所