特許
J-GLOBAL ID：200903057236952948

オゾン水製造装置、オゾン水製造装置を用いた洗浄装置及びオゾン水製造装置を用いた水質改善装置

発明者：
長谷川 可賀

長谷川 可賀 について


出願人/特許権者：
有限会社ガリュー

有限会社ガリュー について


代理人 (7件)： 志賀 正武 ,  高橋 詔男 ,  渡邊 隆 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  西 和哉 ,  村山 靖彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-165227
公開番号（公開出願番号）：特開2006-334552
出願日： 2005年06月06日
公開日（公表日）： 2006年12月14日
要約：
【課題】 オゾン水の製造効率や濃度を向上することができるとともに、必要な時に即座にオゾン水を得ることができるオゾン水製造装置と、このオゾン水製造装置を用いた洗浄装置、並びに、前記オゾン水製造装置を用いた水質改善装置を提供する。【解決手段】 オゾン発生装置37から供給されたオゾンガスを水に溶解させてオゾン水を製造するオゾン水製造装置において、オゾンガスの雰囲気中に微粒子化した水を噴射するノズル本体19を設けたことを特徴とする。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
オゾン発生装置から供給されるオゾンガスを水に溶解させてオゾン水を製造するオゾン水製造装置において、 オゾンガスの雰囲気中に微粒子化した水を噴射する微粒子化手段を設けたことを特徴とするオゾン水製造装置。
IPC (6件)：
B01F 5/20 ,  B01F 1/00 ,  B08B 3/02 ,  B08B 3/08 ,  C02F 1/50 ,  C02F 1/78
FI (12件)：
B01F5/20 ,  B01F1/00 A ,  B08B3/02 E ,  B08B3/08 Z ,  C02F1/50 510A ,  C02F1/50 520C ,  C02F1/50 520L ,  C02F1/50 531R ,  C02F1/50 540B ,  C02F1/50 550C ,  C02F1/50 550D ,  C02F1/78
Fターム (10件)：
3B201AA31 ,  3B201BB21 ,  3B201BB92 ,  4D050AA03 ,  4D050AA10 ,  4D050AB06 ,  4D050BB02 ,  4D050BD03 ,  4G035AA01 ,  4G035AC37
引用特許：
出願人引用 (11件)
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審査官引用 (8件)
  • オゾン気泡を含むオゾン水の生成装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-129706   出願人：日新化成工業株式会社
  • オゾン水処理装置及び洗浄処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-207221   出願人：芝浦メカトロニクス株式会社
  • 特開昭63-171694
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