特許
J-GLOBAL ID：200903057238551274
荷電粒子ビーム観察方法及び荷電粒子ビーム装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-008678
公開番号（公開出願番号）：特開2005-203241
出願日： 2004年01月16日
公開日（公表日）： 2005年07月28日
要約：
【課題】 帯電の影響を無くして、画質を向上させる。【解決手段】 電子銃1からの電子ビームで試料4上の観察すべき領域を二次元的に走査し、この走査により二次電子検出器31で検出された観察領域からの二次電子に基づく信号により表示装置34に観察領域の二次電子像を表示させる。この様な観察において、観察領域の二次電子ビーム像を得る前に、少なくとも観察領域を含む領域に対して帯電が起こらない様に電子ビームでプリ照射する。【選択図】図5
請求項（抜粋）：
荷電粒子ビームで試料上の観察すべき領域を二次元的に走査し、該走査により検出された観察領域からの荷電粒子ビームに基づく信号により表示装置に観察領域の荷電粒子ビーム像を表示させるように成した荷電粒子ビーム観察方法において、前記観察領域の荷電粒子ビーム像を得る前に、少なくとも前記観察領域を含む領域に対して帯電が起こらない様に荷電粒子ビームでプリ照射した荷電粒子ビーム観察方法。
IPC (4件)：
H01J37/28
, G21K5/04
, H01J37/20
, H01L21/66
H01J37/28 B
, G21K5/04 A
, G21K5/04 M
, H01J37/20 H
, H01L21/66 J
4M106AA01
, 4M106BA02
, 4M106CA39
, 4M106DB05
, 4M106DH33
, 5C001BB07
, 5C001CC04
, 5C033UU02
, 5C033UU03
, 5C033UU04
