特許
J-GLOBAL ID：200903057346803085

シリルケテンアセタール及びジシリルケテンアセタールの製造方法

発明者：
清森 歩

清森 歩 について

, 
久保田 透

久保田 透 について


出願人/特許権者：
信越化学工業株式会社

信越化学工業株式会社 について


代理人 (4件)： 小島 隆司 ,  重松 沙織 ,  小林 克成 ,  石川 武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-092623
公開番号（公開出願番号）：特開2004-339200
出願日： 2004年03月26日
公開日（公表日）： 2004年12月02日
要約：
【解決手段】 式(1)のα,β-不飽和カルボン酸エステルと、式(2)のヒドロシラン又はヒドロシロキサンとをトリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン存在下に反応させる式(3)のシリルケテンアセタールの製造方法。 【化1】(R1、R2、R3はH又は一価炭化水素基、R4は一価炭化水素基又はSi-H結合を含まないシリル基) 【化2】(Ra、Rb、Rcは一価炭化水素基、オルガノキシ基、オルガノ(ポリ)シロキシ基及びハロゲン原子から選ばれる基) 【化3】【効果】 本発明により、塩等の副生成物がなく、高純度のシリルケテンアセタール及びジシリルケテンアセタールを高収率で製造する方法を提供することができる。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
下記一般式(1)で表されるα,β-不飽和カルボン酸エステルと、下記一般式(2)で表されるヒドロシラン又はヒドロシロキサンとを触媒量のトリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン存在下に反応させることを特徴とする、下記一般式(3)で表されるシリルケテンアセタールの製造方法。
IPC (2件)：
C07F7/08 ,  C07F7/12
FI (3件)：
C07F7/08 C ,  C07F7/08 X ,  C07F7/12 X
Fターム (21件)：
4H039CA61 ,  4H039CA92 ,  4H049VN01 ,  4H049VP01 ,  4H049VP02 ,  4H049VP10 ,  4H049VQ01 ,  4H049VQ03 ,  4H049VQ20 ,  4H049VQ21 ,  4H049VQ79 ,  4H049VR21 ,  4H049VR22 ,  4H049VR23 ,  4H049VR24 ,  4H049VR41 ,  4H049VR42 ,  4H049VR43 ,  4H049VR44 ,  4H049VS02 ,  4H049VS21
引用特許：
出願人引用 (11件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM