特許

J-GLOBAL ID：200903057346803085

シリルケテンアセタール及びジシリルケテンアセタールの製造方法

発明者： 清森 歩 ,  久保田 透
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (4件)： 小島 隆司 ,  重松 沙織 ,  小林 克成 ,  石川 武史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-092623
公開番号（公開出願番号）：特開2004-339200
出願日： 2004年03月26日
公開日（公表日）： 2004年12月02日
要約：

【解決手段】 式(1)のα,β-不飽和カルボン酸エステルと、式(2)のヒドロシラン又はヒドロシロキサンとをトリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン存在下に反応させる式(3)のシリルケテンアセタールの製造方法。 【化1】(R1、R2、R3はH又は一価炭化水素基、R4は一価炭化水素基又はSi-H結合を含まないシリル基) 【化2】(Ra、Rb、Rcは一価炭化水素基、オルガノキシ基、オルガノ(ポリ)シロキシ基及びハロゲン原子から選ばれる基) 【化3】【効果】 本発明により、塩等の副生成物がなく、高純度のシリルケテンアセタール及びジシリルケテンアセタールを高収率で製造する方法を提供することができる。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(1)で表されるα,β-不飽和カルボン酸エステルと、下記一般式(2)で表されるヒドロシラン又はヒドロシロキサンとを触媒量のトリス(ペンタフルオロフェニル)ボラン存在下に反応させることを特徴とする、下記一般式(3)で表されるシリルケテンアセタールの製造方法。

IPC (2件)：

C07F7/08 ,  C07F7/12

FI (3件)：

C07F7/08 C ,  C07F7/08 X ,  C07F7/12 X

Fターム (21件)：

4H039CA61 ,  4H039CA92 ,  4H049VN01 ,  4H049VP01 ,  4H049VP02 ,  4H049VP10 ,  4H049VQ01 ,  4H049VQ03 ,  4H049VQ20 ,  4H049VQ21 ,  4H049VQ79 ,  4H049VR21 ,  4H049VR22 ,  4H049VR23 ,  4H049VR24 ,  4H049VR41 ,  4H049VR42 ,  4H049VR43 ,  4H049VR44 ,  4H049VS02 ,  4H049VS21

引用特許：

出願人引用 (13件)

• 米国特許第4417034号明細書
  
• 米国特許第5208358号明細書
  
• 特開昭64-71886号公報
  
• 米国特許第4508880号明細書
  
• α,α-ジフルオロ-β-ケトエステルの製造方法、及びジフルオロケテンシリルアセタールの製造方法、並びに光学活性なα,α-ジフルオロ-β-ヒドロキシエステルの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-062046   出願人：ダイキン工業株式会社
• シス置換ビシクロヘプタンジオン誘導体の立体選択的製造法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-050912   出願人：日本曹達株式会社
• 米国特許第4482729号明細書
  
• 特開平2-111780号公報
  
• 特開昭64-85982号公報
  
• 特開昭63-290887号公報
  
• 特開昭62-87594号公報
  
• 特開平4-253986
  
• 特開昭62-087593
  

引用文献：

出願人引用 (1件)

• Rapid Access to Polyketide Scaffolds via Vinylogous Mukaiyama Aldol Reactions