特許
J-GLOBAL ID：200903057398961150

(ジアリールアミノ)チオフェン類の製造方法

発明者：
山本 敏秀

山本 敏秀 について

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西山 正一

西山 正一 について

, 
渡辺 真人

渡辺 真人 について


出願人/特許権者：
東ソー株式会社

東ソー株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-063691
公開番号（公開出願番号）：特開2000-256352
出願日： 1999年03月10日
公開日（公表日）： 2000年09月19日
要約：
【要約】【課題】 入手容易な原料から(ジアリールアミノ)チオフェン類を穏和な反応条件下に、簡便かつ収率よく製造することのできる製造方法を提供する。【解決手段】 ターシャリーブチル-リン結合を有するホスフィンとパラジウム化合物を含む触媒、及び塩基の存在下に、下記一般式(1)【化1】(式中、Xは塩素、臭素、又はヨウ素原子を表す。lは0又は1、mは0〜3の整数、nは1〜3の整数であり、Rはフェニル基又は炭素数1〜20のアルキル基を表す。)で示されるハロゲン化チオフェン類を、下記一般式(2)【化2】(式中、Ar1、Ar2は各々独立して、無置換又は置換基を有する炭素数6〜30のアリール基を表し、Rはフェニル基又は炭素数1〜20のアルキル基を表す。)で示されるN,N-ジアリールアミンによりアミノ化する。
請求項（抜粋）：
ターシャリーブチル-リン結合を有するホスフィンとパラジウム化合物を含む触媒、及び塩基の存在下に、下記一般式(1)【化1】(式中、Xは塩素、臭素、又はヨウ素原子を表す。lは0又は1、mは0〜3の整数、nは1〜3の整数であり、Rはフェニル基又は炭素数1〜20のアルキル基を表す。)で示されるハロゲン化チオフェン類を、下記一般式(2)【化2】(式中、Ar1、Ar2は各々独立して、無置換又は置換基を有する炭素数6〜30のアリール基を表し、Rはフェニル基又は炭素数1〜20のアルキル基を表す。)で示されるN,N-ジアリールアミンによりアミノ化することを特徴とする下記一般式(3)【化3】(式中、lは0又は1、mは0〜3の整数、nは1〜3の整数であり、Ar1、Ar2は各々独立して無置換の又は置換基を有する炭素数6〜30のアリール基を表し、Rはフェニル基又は炭素数1〜20までのアルキル基を表す。)で示される(ジアリールアミノ)チオフェン類の製造方法。
IPC (3件)：
C07D333/36 ,  B01J 31/24 ,  C07B 61/00 300
FI (3件)：
C07D333/36 ,  B01J 31/24 X ,  C07B 61/00 300
Fターム (5件)：
4C023GA01 ,  4C023GA07 ,  4H039CA42 ,  4H039CA71 ,  4H039CG20
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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引用文献：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (1件)

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