特許

J-GLOBAL ID：200903057401786837

表面処理用薬液の再利用方法及び装置

発明者： 福永 明 ,  大野 晴子 ,  加藤 利幸
出願人/特許権者： 株式会社荏原製作所
代理人 (1件)： 渡邉 勇 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-194974
公開番号（公開出願番号）：特開2001-017839
出願日： 1999年07月08日
公開日（公表日）： 2001年01月23日
要約：

【要約】【課題】 従来技術における再生剤や水洗水との分離の困難性の問題や再生後の水洗に多量の水を必要とするという問題を解決することができる表面処理用薬液の再利用方法及び装置を提供する。【解決手段】 基板の表面処理ないし洗浄にイオン交換樹脂2aを分散した超純水14を処理液として使用し、使用後の処理液を電気透析装置1の脱イオン室1aに供給して通電脱塩することにより再生し、再生後の再生液2を処理液として循環再利用する。

請求項（抜粋）：

基板の表面処理ないし洗浄にイオン交換樹脂を分散した超純水を処理液として使用し、使用後の処理液を電気透析装置の脱イオン室に供給して通電脱塩することにより再生し、再生後の再生液を処理液として循環再利用することを特徴とする表面処理用薬液の再利用方法。

IPC (4件)：

B01D 61/44 500 ,  B01D 61/46 ,  C02F 1/42 ,  C02F 1/469

FI (4件)：

B01D 61/44 500 ,  B01D 61/46 ,  C02F 1/42 B ,  C02F 1/46 103

Fターム (30件)：

4D006GA17 ,  4D006JA43Z ,  4D006KA01 ,  4D006KB11 ,  4D006MA03 ,  4D006MA13 ,  4D006MA14 ,  4D006PA01 ,  4D006PB08 ,  4D006PB20 ,  4D006PC01 ,  4D025AA09 ,  4D025AB06 ,  4D025AB07 ,  4D025AB14 ,  4D025AB22 ,  4D025AB23 ,  4D025BA22 ,  4D025BB01 ,  4D025BB04 ,  4D025BB18 ,  4D025DA06 ,  4D061DA08 ,  4D061DB20 ,  4D061EA09 ,  4D061EB04 ,  4D061EB13 ,  4D061EB17 ,  4D061EB19 ,  4D061FA08

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 半導体基板の洗浄装置および洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-295256   出願人：信越半導体株式会社, 株式会社プレテック
• 電気式脱イオン水製造装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-281108   出願人：オルガノ株式会社
• 電気透析装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-074742   出願人：野村マイクロ・サイエンス株式会社