特許
J-GLOBAL ID：200903057447997859

透明導電性被膜形成用塗布液、透明導電性被膜付基材および表示装置

発明者：
熊 沢 光 章

熊 沢 光 章 について

, 
平 井 俊 晴

平 井 俊 晴 について


出願人/特許権者：
触媒化成工業株式会社

触媒化成工業株式会社 について


代理人 (1件)： 鈴木 俊一郎 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-397933
公開番号（公開出願番号）：特開2003-192994
出願日： 2001年12月27日
公開日（公表日）： 2003年07月09日
要約：
【要約】【課題】 102〜108Ω/□程度の低い表面抵抗を有し、優れた帯電防止性、電磁遮蔽性および反射防止性を併せ持つともに、基材との密着性に優れ、耐擦傷性にも優れた透明導電性被膜を形成しうる透明導電性被膜形成用塗布液、透明導電性被膜付基材を提供する。【解決手段】 導電性高分子と屈折率が1.28〜1.42の範囲にある無機酸化物粒子と極性溶媒とからなることを特徴とする透明導電性被膜形成用塗布液。前記透明導電性被膜形成用塗布液を用いて形成されてなる透明導電性被膜付基材。導電性高分子と屈折率が1.5〜2.8の範囲にある無機酸化物粒子と極性溶媒とからなる透明導電性被膜形成用塗布液を用いて形成された透明導電層上に、屈折率が1.28〜1.42の範囲にある無機酸化物粒子を含む透明被膜が設けられていることを特徴とする透明導電性被膜付基材。
請求項（抜粋）：
導電性高分子と屈折率が1.28〜1.42の範囲にある無機酸化物粒子と極性溶媒とからなることを特徴とする透明導電性被膜形成用塗布液。
IPC (4件)：
C09D201/00 ,  B32B 7/02 104 ,  C09D 5/24 ,  H01B 5/14
FI (4件)：
C09D201/00 ,  B32B 7/02 104 ,  C09D 5/24 ,  H01B 5/14 A
Fターム (47件)：
4F100AA17A ,  4F100AA17C ,  4F100AK01A ,  4F100AK01C ,  4F100AT00B ,  4F100BA02 ,  4F100BA03 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10B ,  4F100DE01A ,  4F100DE01C ,  4F100EH46A ,  4F100EH46C ,  4F100GB41 ,  4F100JD08 ,  4F100JG01 ,  4F100JG01A ,  4F100JG01C ,  4F100JG03 ,  4F100JL11 ,  4F100JN01A ,  4F100JN01C ,  4F100JN06 ,  4F100JN18A ,  4F100JN18C ,  4F100YY00A ,  4F100YY00C ,  4J038BA031 ,  4J038CE021 ,  4J038CF021 ,  4J038DC002 ,  4J038DJ002 ,  4J038DK002 ,  4J038DL031 ,  4J038DN012 ,  4J038HA216 ,  4J038HA446 ,  4J038NA01 ,  4J038NA20 ,  5G307FA01 ,  5G307FA02 ,  5G307FB03 ,  5G307FC01 ,  5G307FC05 ,  5G307FC08 ,  5G307FC10
引用特許：
審査官引用 (3件)

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