特許
J-GLOBAL ID：200903057495841844
微細パターンを有する薄膜状部品の製造方法及び装置、液晶装置の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
西 和哉
, 志賀 正武
, 青山 正和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-162198
公開番号（公開出願番号）：特開2007-331954
出願日： 2006年06月12日
公開日（公表日）： 2007年12月27日
要約：
【課題】微細パターンを有し且つガラスに対して溶解を示さない特定溶媒に溶解可能な特定材料からなるレプリカに対し、当該レプリカの微細パターン上に塗布される部品形成材料の膜厚のウェーファー面内均一性を高め、製品信頼性の向上及び生産性向上を可能とする微細パターンを有する薄膜状部品の製造方法及び装置、液晶装置の製造方法を提供する。【解決手段】微細パターンを有し、且つヒートレスガラス材料に対して溶解性を示さない特定溶媒に溶解可能な特定材料からなるレプリカ20と、レプリカ20に対して所定間隔をおいて平行に対向配置される支持基板21との間の部品形成空間28にヒートレスガラス材料を注入する注入工程と、レプリカ20及び支持基板21を回転させる回転工程と、ヒートレスガラス材料を硬化する硬化工程と、レプリカ20を特定溶媒により溶解させる溶解工程と、を含む。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
微細パターンを有し、且つ部品成形材料に対して溶解性を示さない特定溶媒に溶解可能な特定材料からなるレプリカと、該レプリカに対して所定間隔をおいて平行に対向配置される支持基板との間の隙間に前記部品成形材料を注入する注入工程と、
前記部品成形材料を硬化させる硬化工程と、
前記レプリカを前記特定溶媒により溶解させる溶解工程と、を含むことを特徴とする微細パターンを有する薄膜状部品の製造方法。
IPC (4件)：
C03B 19/12
, G02B 5/18
, G02F 1/133
, C03B 8/02
C03B19/12 A
, G02B5/18
, G02F1/1337 515
, C03B8/02 Z
2H049AA03
, 2H049AA13
, 2H049AA39
, 2H049AA45
, 2H049AA57
, 2H049AA60
, 2H049AA65
, 2H090HB03Y
, 2H090HC01
, 2H090HC12
, 2H090MA02
, 2H090MB14
, 4G014AH01
