特許
J-GLOBAL ID:200903057500191403
塗布膜の形成方法及び形成装置
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
松浦 憲三
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-010629
公開番号(公開出願番号):特開2008-173589
出願日: 2007年01月19日
公開日(公表日): 2008年07月31日
要約:
【課題】塗布後の膜面上のガス濃度を早期に安定させ、塗布直後の初期乾燥過程で発生する斑を顕著に抑制し、均一な膜を形成することができる塗布膜の形成方法および形成装置を提供する。【解決手段】走行するウエブ12に、塗布手段20を用いて有機溶剤を含む塗布液を塗布する塗布工程と、乾燥ゾーン14にて該塗布液の溶媒を蒸発させる初期乾燥工程と、さらに、該塗布液に温度をかけ揮発分を乾燥する本乾燥工程と、を行う塗布膜の形成方法において、塗布手段20と乾燥ゾーン14との区間である塗布部122の長さが、ウエブ12の走行方向において100〜3000mmであり、塗布部122の圧力が、乾燥ゾーン14および塗布前室110の圧力より加圧となっていることを特徴とする塗布膜の形成方法である。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
走行する長尺状支持体に、塗布手段を用いて有機溶剤を含む塗布液を塗布する塗布工程と、乾燥ゾーンにて該塗布液の溶媒を蒸発させる初期乾燥工程と、さらに、該塗布液に温度をかけ揮発分を乾燥する本乾燥工程と、を行う塗布膜の形成方法において、
前記塗布手段と前記乾燥ゾーンとの区間である塗布部の長さが、前記長尺状支持体の走行方向において100〜3000mmであり、
前記塗布部の圧力が、前記乾燥ゾーン、および前記塗布部を備える部屋の室外の圧力より加圧となっていることを特徴とする塗布膜の形成方法。
IPC (5件):
B05D 3/02
, B05D 7/04
, B05C 5/02
, B05C 9/14
, B05C 9/08
FI (5件):
B05D3/02 D
, B05D7/04
, B05C5/02
, B05C9/14
, B05C9/08
Fターム (16件):
4D075AC72
, 4D075AC92
, 4D075BB23X
, 4D075BB24Z
, 4D075BB56Z
, 4D075DA04
, 4D075DC24
, 4F041AA12
, 4F041AB01
, 4F041CA02
, 4F042BA06
, 4F042BA13
, 4F042BA19
, 4F042BA27
, 4F042DB02
, 4F042DB17
引用特許:
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