特許

J-GLOBAL ID：200903057605792674

ハーフトーン型位相シフトマスクブランク及び該ブランクを用いたハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法

発明者： 山田 芳郎 ,  千葉 和明 ,  狩川 英聖
出願人/特許権者： 凸版印刷株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-105698
公開番号（公開出願番号）：特開平8-304998
出願日： 1995年04月28日
公開日（公表日）： 1996年11月22日
要約：

【要約】【目的】ハーフトーン型の位相シフトマスク製造工程に直接的には必要としないが、製造されるマスクの欠陥検査においては必要とするある程度の遮光性をもった金属層をマスクブランクに付加し、且つ該ブランクを用いてハーフトーン型の位相シフトマスクを製造する最終工程の途中にて、上記金属層を介して欠陥検査を実施して、可視光を用いた欠陥検査を行えるようにする。【構成】透明基板1上に、光半透過性の位相シフトマスクパターン形成層3と、該形成層3上に欠陥検査用の遮光性を有する金属層4を積層したハーフトーン型位相シフトマスクブランク及び該ブランクを用いたハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法。

請求項（抜粋）：

透明基板1上に、光半透過性の位相シフトマスクパターン形成層3と、該位相シフトマスクパターン形成層3上に欠陥検査用の不完全な遮光性を有する金属層4を積層したことを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスクブランク。

IPC (3件)：

G03F 1/08 ,  G03F 1/14 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 1/08 A ,  G03F 1/14 G ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 528

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 位相シフトフォトマスク、位相シフトフォトマスク用ブランクス及びそれらの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-031428   出願人：大日本印刷株式会社
• ハーフトーン位相シフトフオトマスク
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-287832   出願人：大日本印刷株式会社