特許
J-GLOBAL ID：200903057639361311

ポジ型画像形成材料

発明者：
岩戸 薫

岩戸 薫 について

, 
嶋田 和人

嶋田 和人 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (1件)： 中島 淳 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-079530
公開番号（公開出願番号）：特開2002-278050
出願日： 2001年03月19日
公開日（公表日）： 2002年09月27日
要約：
【要約】【課題】 高感度な記録が可能であり、現像時のラチチュードと耐刷性に優れた、ヒートモード対応ポジ型画像形成材料を提供する。【解決手段】 支持体上に(1)水不溶性且つアルカリ可溶性高分子化合物、(2)赤外線を吸収し熱を発生する化合物及び、(3)下記一般式(A)で表され、成分(1)水不溶性且つアルカリ可溶性高分子化合物と混合することによって該高分子化合物の水又はアルカリ現像液に対する溶解性を下げる化合物、とを含有する。一般式(A)中、X-は一般式(B)で示される化合物又は一般式(C)で示される化合物のアニオンを示し、M+はスルホニウム、ヨードニウム、ジアゾニウム、アンモニウム、アジニウムから選択される対カチオンを表す。一般式(B)中、Yは単結合、-CO-又は、-SO2-を表し、一般式(C)中、RCはアルキル基又はアリール基を表す。【化1】
請求項（抜粋）：
支持体上に(1)水不溶性且つアルカリ可溶性高分子化合物、(2)赤外線を吸収し熱を発生する化合物及び、(3)下記一般式(A)で表される化合物、とを含有するヒートモード対応ポジ型画像形成材料。一般式(A) X- M+式中、X-は下記一般式(B)で示される化合物のアニオン又は一般式(C)で示される化合物のアニオン部を示し、M+はスルホニウム、ヨードニウム、ジアゾニウム、アンモニウム、アジニウムから選択される対カチオンを表す。【化1】一般式(B)中、Yは単結合、-CO-又は、-SO2-を表し、Ra、Rbはそれぞれ独立に、直鎖、分岐又は環状のアルキル基、アリール基、アラルキル基、樟脳基を表す。RaとRbとは、アルキレン基、アリーレン基、アラルキル基を介して結合し、環を形成しても良い。Yが-CO-基の場合、Rbは水酸基、アルコキシ基であってもよい。一般式(C) RC-COO- M+式中、RCはアルキル基又はアリール基を表し、M+は一般式(A)におけるのと同義である。
IPC (3件)：
G03F 7/004 501 ,  B41N 1/14 ,  G03F 7/00 503
FI (3件)：
G03F 7/004 501 ,  B41N 1/14 ,  G03F 7/00 503
Fターム (27件)：
2H025AA01 ,  2H025AA04 ,  2H025AA12 ,  2H025AA13 ,  2H025AB03 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025CC11 ,  2H025CC20 ,  2H025FA10 ,  2H025FA17 ,  2H096AA06 ,  2H096BA11 ,  2H096EA04 ,  2H096GA08 ,  2H114AA04 ,  2H114AA22 ,  2H114AA23 ,  2H114BA01 ,  2H114EA02 ,  2H114GA03 ,  2H114GA04 ,  2H114GA09 ,  2H114GA27 ,  2H114GA34 ,  2H114GA35 ,  2H114GA36
引用特許：
審査官引用 (4件)
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