特許

J-GLOBAL ID：200903057696784148

膜構造体及びその膜構造体の製造方法並びにその膜構造体を具備するセンサ及び静電アクチュエータ及びインクジェット記録ヘッド及びそれらの製造方法並びにそのインクジェット記録ヘッドを具備するインクジェット記録装置

発明者： 佐藤 幸人
出願人/特許権者： 株式会社リコー
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-232120
公開番号（公開出願番号）：特開2002-046099
出願日： 2000年07月31日
公開日（公表日）： 2002年02月12日
要約：

【要約】【課題】 薄くした薄膜体の座屈による皺状の変形の発生を防止して、正確な検出と制御が行われ、歩留まりが高く低コストの膜構造体及びその膜構造体の製造方法並びにその膜構造体を具備するセンサ及び静電アクチュエータ及びインクジェット記録ヘッド及びそれらの製造方法並びにそのインクジェット記録ヘッドを具備するインクジェット記録装置を提供する。【解決手段】 シリコンからなる膜基板1と、上記膜基板1に形成された薄くした薄膜体2と、上記薄膜体2を覆う絶縁膜3と、上記絶縁膜3に覆われた上記薄膜体1に形成された線状の線状窪み4とからなる。

請求項（抜粋）：

シリコンで形成されて変形する膜構造体において、前記シリコンからなる膜基板と、前記膜基板に形成された薄くした薄膜体と、前記薄膜体を覆う絶縁膜と、前記絶縁膜に覆われた前記薄膜体に形成された線状の線状窪みとからなることを特徴とする膜構造体。

IPC (6件)：

B81B 3/00 ,  B41J 2/045 ,  B41J 2/055 ,  B41J 2/16 ,  B81C 1/00 ,  H01L 29/84

FI (5件)：

B81B 3/00 ,  B81C 1/00 ,  H01L 29/84 Z ,  B41J 3/04 103 A ,  B41J 3/04 103 H

Fターム (27件)：

2C057AF93 ,  2C057AF99 ,  2C057AG30 ,  2C057AG53 ,  2C057AG54 ,  2C057AG55 ,  2C057AN01 ,  2C057AP02 ,  2C057AP26 ,  2C057AP33 ,  2C057AP34 ,  2C057AP52 ,  2C057AP56 ,  2C057AP58 ,  2C057BA04 ,  2C057BA15 ,  4M112AA01 ,  4M112BA07 ,  4M112CA03 ,  4M112CA16 ,  4M112DA04 ,  4M112DA11 ,  4M112DA12 ,  4M112DA18 ,  4M112EA03 ,  4M112EA06 ,  4M112FA07

引用特許：

審査官引用 (3件)

• インクジェットヘッド
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-349984   出願人：株式会社リコー
• インクジェットヘッド
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-077651   出願人：セイコーエプソン株式会社
• 特表平4-506253