特許
J-GLOBAL ID：200903057741606981

プラズマ処理方法及び装置

発明者：
鈴木 正樹

鈴木 正樹 について

, 
奥村 智洋

奥村 智洋 について


出願人/特許権者：
松下電器産業株式会社

松下電器産業株式会社 について


代理人 (4件)： 山田 卓二 ,  田中 光雄 ,  和田 充夫 ,  岡部 博史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-129811
公開番号（公開出願番号）：特開2008-226857
出願日： 2008年05月16日
公開日（公表日）： 2008年09月25日
要約：
【課題】誘電体窓の温度変化を抑制でき、プラズマ化に利用できる実質的な電力が大きく、高周波ノイズが発生しにくいプラズマ処理方法及び装置を提供する。【解決手段】真空容器1内にガス供給装置2より所定の反応ガスを導入しつつ真空排気装置3で排気を行い、真空容器1内を所定の圧力に保ちながら、高周波電源4により高周波電力を、誘電体窓5の外側に配置された高周波電極6に印加すると、真空容器1内にプラズマが発生し、基板電極7上に載置された基板8に対してプラズマ処理を行うことができる。このとき、誘電体窓5の内部に設けられた流路11に流体を流すことにより、誘電体窓5の温度を制御することができる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
円盤形状の誘電体窓を備えて密閉される真空容器内に基板を配置して、誘電体窓を挟んで基板に対向して真空容器外に配置された高周波電極に高周波電力を印加して、真空容器内にプラズマを発生させ、基板または基板上の膜をプラズマ処理するプラズマ処理方法であって、 誘電体窓の内部にその全面に渡って円盤形状の周方向沿いに平面的に円弧状の形状を有する複数の流路を繋ぎ合わせて構成されかつ一筆書き状に一続きに設けられた流路に対して、一筆書き状かつ一続きの流路の一端に設けられかつ誘電体窓の処理室外側表面に配置された流入口と、一筆書き状かつ一続きの流路の他端に設けられかつ誘電体窓の処理室外側表面に配置された流出口とを通して、温度制御された流体を流通させることで、円盤形状の周方向沿いの流路に沿った流体の流れにより、誘電体窓の外周温度を一定の範囲内に保つように制御して、誘電体窓への堆積物の形成及び剥離を抑制しながら、基板または基板上の膜に対するプラズマ処理を行うことを特徴とする、プラズマ処理方法。
IPC (3件)：
H05H 1/46 ,  H01L 21/306 ,  H01L 21/205
FI (3件)：
H05H1/46 L ,  H01L21/302 101C ,  H01L21/205
Fターム (14件)：
5F004BA20 ,  5F004BB25 ,  5F004BB29 ,  5F004BD04 ,  5F004CA04 ,  5F004DA23 ,  5F004DB20 ,  5F045AA08 ,  5F045BB15 ,  5F045DP03 ,  5F045EF05 ,  5F045EH03 ,  5F045EH11 ,  5F045EJ04
引用特許：
審査官引用 (3件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM