特許

J-GLOBAL ID：200903057744953925

放電プラズマを発生させ制御するための方法及び構成

発明者： デブリス ヒンドリック ウィレム ,  アルデア オウゲン ,  ボウストラ ヤン バスティアーン ,  ファンデサンデン モーリティウス コーネリウス マリア
出願人/特許権者： フジフィルム マニュファクチャリング ユーロプ ビー.ブイ.
代理人 (1件)： 廣田 雅紀
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-527864
公開番号（公開出願番号）：特表2009-506496
出願日： 2006年08月24日
公開日（公表日）： 2009年02月12日
要約：

少なくとも2つの一定の間隔で配置された電極(13、14)を有する放電空間(11)の中の放電プラズマを制御するための方法及び構成。ガス又はガス混合物が放電空間(11)の中に注入され、ACプラズマ付勢電圧を電極(13、14)に印加するため、電極(13、14)を付勢するための電源(15)が用意される。少なくとも1つの電流パルスが発生し、プラズマ電流及び変位電流を引き起こす。プラズマを制御するための手段が用意され、フィラメント放電などの低い動的抵抗対静的抵抗比を有するプラズマ変化に関連した局所的電流密度変化を制御するために変位電流変化率を適用するように構成される。こうした急速な変化をパルス発生回路(20)を使用して抑制することによって、均一なグロー放電プラズマが得られる。

請求項（抜粋）：

少なくとも2つの一定の間隔で配置された電極(13、14)を有するプラズマ放電空間(11)の中で、ガス又はガス混合物の中で放電プラズマを発生させ制御するための方法であって、少なくとも1つの電流パルスがACプラズマ付勢電圧の前記電極(13、14)への印加によって発生し、これによりプラズマ電流及び変位電流が生じ、前記放電プラズマの制御が、低い動的抵抗対静的抵抗比を有するプラズマの変化に関連した局所的電流密度変化を制御するために変位電流変化率dI/Idtを適用するステップを含む方法。

IPC (3件)：

H05H 1/24 ,  H05H 1/46 ,  B01J 19/08

FI (4件)：

H05H1/24 ,  H05H1/46 R ,  B01J19/08 E ,  B01J19/08 H

Fターム (11件)：

4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075AA32 ,  4G075BC04 ,  4G075BD14 ,  4G075CA47 ,  4G075CA62 ,  4G075CA63 ,  4G075DA01 ,  4G075DA03 ,  4G075DA18

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 欧州特許出願公開第EP-A-1548795号
  

審査官引用 (2件)

• 大気圧条件下でグロー放電プラズマを生成して維持するための改良された装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-273106   出願人：フジフォトフィルムビー.ブイ.
• プラズマ発生装置、プラズマ処理装置およびこれを用いたプラズマ発生方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-063612   出願人：積水化学工業株式会社