特許
J-GLOBAL ID：200903030547499001

プラズマ発生装置、プラズマ処理装置およびこれを用いたプラズマ発生方法

発明者：
勢造 一志

勢造 一志 について


出願人/特許権者：
積水化学工業株式会社

積水化学工業株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-063612
公開番号（公開出願番号）：特開2004-273312
出願日： 2003年03月10日
公開日（公表日）： 2004年09月30日
要約：
【課題】大気圧近傍の圧力下で、連続波によって安定したグロー放電プラズマ処理を行うことのできるプラズマ処理方法および装置を提供する。【解決手段】所定の間隔を隔てて対向する一対の電極1間に電界を印加することにより、大気圧近傍の圧力下でグロー放電によるプラズマを発生させるプラズマ発生装置において、前記電界は、昇圧手段を備えた共振回路から供給されるように構成され、前記共振回路は、共振可能な所定の周波数帯域幅を得るとともに放電開始電圧を超えるように、共振のQ値と、前記Q値に応じた前記昇圧手段3の昇圧比とを設定してなることを特徴とする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
所定の間隔を隔てて対向する一対の電極間に電界を印加することにより、大気圧近傍の圧力下でグロー放電によるプラズマを発生させるプラズマ発生装置において、 前記電界は、昇圧手段を備えた共振回路から供給されるように構成され、 前記共振回路は、共振可能な所定の周波数帯域幅を得るとともに放電開始電圧を超えるように、共振のQ値と、前記Q値に応じた前記昇圧手段の昇圧比とを設定してなることを特徴とするプラズマ発生装置。
IPC (6件)：
H05H1/24 ,  B01J19/08 ,  C23C16/505 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/31 ,  H05H1/46
FI (6件)：
H05H1/24 ,  B01J19/08 E ,  C23C16/505 ,  H01L21/31 C ,  H05H1/46 R ,  H01L21/302 101E
Fターム (31件)：
4G075AA24 ,  4G075AA30 ,  4G075AA61 ,  4G075BC06 ,  4G075BC10 ,  4G075CA14 ,  4G075CA16 ,  4G075DA01 ,  4G075EB41 ,  4G075EB42 ,  4G075EC21 ,  4K030AA06 ,  4K030BA30 ,  4K030KA30 ,  5F004AA16 ,  5F004BA20 ,  5F004BB11 ,  5F004BB24 ,  5F004BB29 ,  5F004DA01 ,  5F004DA26 ,  5F004DB08 ,  5F004DB26 ,  5F045AA08 ,  5F045AB03 ,  5F045AB04 ,  5F045AB06 ,  5F045AB31 ,  5F045AB32 ,  5F045AB33 ,  5F045EH01
引用特許：
審査官引用 (13件)
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