特許
J-GLOBAL ID：200903057806918862

ノズル洗浄装置

発明者：
佐藤 隆行

佐藤 隆行 について

, 
谷口 由雄

谷口 由雄 について


出願人/特許権者：
大日本スクリーン製造株式会社

大日本スクリーン製造株式会社 について


代理人 (1件)： 小野 由己男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-234552
公開番号（公開出願番号）：特開平11-074179
出願日： 1997年08月29日
公開日（公表日）： 1999年03月16日
要約：
【要約】【課題】 塗布装置のノズル7の洗浄に際してノズル先端部が乾燥するのを防ぎ、パーティクルを抑える。【解決手段】 このノズル洗浄装置は、基板Pの表面に塗布液を吐出するスリット20を有するノズル7を洗浄するための装置であり、洗浄ブロック31と、洗浄ノズル42と、洗浄液排出ガイド45とを備えている。洗浄ブロック31は基板表面から退避した待機位置のノズル7に対向して配置可能である。洗浄ノズル42は、洗浄ブロック31に設けられ、待機位置にあるノズル7のスリット近傍に向けて洗浄液を吐出する。洗浄液排出ガイド45は、洗浄ブロック31に設けられるとともに待機位置にあるノズル7のスリット20に近接するように配置されている。
請求項（抜粋）：
基板の表面に塗布液を吐出するノズル孔を有する塗布液供給ノズルを洗浄するためのノズル洗浄装置であって、基板表面から退避した待機位置の前記塗布液供給ノズルに対向して配置可能な洗浄ブロックと、前記洗浄ブロックに設けられ、待機位置にある前記塗布液供給ノズルのノズル孔近傍に向けて洗浄液を吐出する洗浄ノズルと、前記洗浄ブロックに設けられるとともに待機位置にある前記塗布液供給ノズルのノズル孔に近接するように配置された洗浄液排出ガイドと、を備えたノズル洗浄装置。
IPC (4件)：
H01L 21/027 ,  B05C 11/10 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304
FI (4件)：
H01L 21/30 564 C ,  B05C 11/10 ,  H01L 21/304 341 Z ,  H01L 21/304 341 N
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (2件)
  • 特開平4-118067
  • 処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-351191   出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社

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