レジストパターン形成方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-039762
公開番号（公開出願番号）：特開平11-223943
出願日： 1998年02月04日
公開日（公表日）： 1999年08月17日
要約：

【要約】【課題】基板とレジストの密着性、抑泡性、耐エッチング性に優れ、レジストパターンを短時間、かつ高い歩留まりで行うことができるレジストパターン形成方法を提供すること。【解決手段】 (a)カルボキシル基含有ポリマー、(b)エチレン性不飽和化合物、(c)ロフィン二量体、(d)光重合開始剤、(e)ロイコ染料を含有してなる感光性樹脂組成物において、(b)成分として特定化合物を(b)成分全体に対して50〜100重量%含有し、更に(a)成分と(b)成分の合計量100重量部に対して(c)成分を0.5〜6.0重量部、(d)成分を0.1〜10重量部、(e)成分を0.1〜3.0重量部含有してなる感光性樹脂組成物(F)層を金属基板表面に形成して、露光、現像し、現像終了後に活性光線を照射するレジストパターン形成方法。

請求項（抜粋）：

(a)カルボキシル基含有ポリマー、(b)エチレン性不飽和化合物、(c)ロフィン二量体、(d)光重合開始剤、(e)ロイコ染料を含有してなる感光性樹脂組成物において、(b)成分として下記?@式で示される化合物を(b)成分全体に対して50〜100重量%含有し、更に(a)成分と(b)成分の合計量100重量部に対して(c)成分を0.5〜6.0重量部、(d)成分を0.1〜10重量部、(e)成分を0.1〜3.0重量部含有してなる感光性樹脂組成物(F)層を金属基板表面に形成して、露光、現像し、現像終了後に活性光線を照射することを特徴とするレジストパターン形成方法。【化1】(ここで、R1、R2は炭素数1〜3のアルキル基又は水素で、それらは同一であってもよいし、互いに異なっていてもよい。nは4〜20の整数である。)

IPC (4件)：

G03F 7/027 502 , G03F 7/004 512 , G03F 7/031 , H05K 3/06

FI (4件)：

G03F 7/027 502 , G03F 7/004 512 , G03F 7/031 , H05K 3/06 H

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平4-122934
感光性樹脂組成物、これを用いた感光性フィルム及びソルダーレジストの製造法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-040077 出願人：日立化成工業株式会社
特開平2-062545

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