特許
J-GLOBAL ID:200903057936850798
デカリンおよび水素の製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
秋元 輝雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-076091
公開番号(公開出願番号):特開2003-277003
出願日: 2002年03月19日
公開日(公表日): 2003年10月02日
要約:
【要約】【課題】ナフタレンを水素化してデカリンを製造する方法において、低純度水素を用いる方法を提供し、さらに低純度水素を高純度化する簡便かつ安価な方法を提供する。【解決手段】ナフタレンを主とし、硫黄分が50ppm以下である原料ナフタレンを水素濃度が20-80容積%である供給ガスを用いて水素化しデカリンを含む生成物を製造する。更に、製造したデカリンを含む生成物を脱水素して高純度の水素を供給する。【効果】ナフタレンの水素化において、低純度水素を用いて、比較的低圧の下、短時間の反応でデカリンを製造することができ、高純度の水素も供給できる。
請求項(抜粋):
水素を含む供給ガスを用いて硫黄分が50ppm以下であるナフタレンを含む原料ナフタレンを水素化してデカリンを含む生成物を製造し、該生成物を脱水素することにより高純度水素を得ることを特徴とする水素の製造方法。
IPC (6件):
C01B 3/24
, C01B 3/58
, C07C 5/10
, C07C 13/50
, H01M 8/06
, H01M 8/10
FI (6件):
C01B 3/24
, C01B 3/58
, C07C 5/10
, C07C 13/50
, H01M 8/06 R
, H01M 8/10
Fターム (10件):
4G140DA03
, 4G140DB05
, 4H006AA02
, 4H006AC11
, 4H006BC11
, 4H006BE20
, 5H026AA06
, 5H027AA06
, 5H027BA00
, 5H027KK31
引用特許:
引用文献:
審査官引用 (2件)
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接触水素化反応, 19870410, 第1版第1刷, 第267-272頁
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接触水素化反応, 19870410, 第1版第1刷, 第85-88頁
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