特許

J-GLOBAL ID：200903058020767840

搬送装置、真空処理装置および搬送方法

発明者： 吉田 大介
出願人/特許権者： 株式会社アルバック
代理人 (3件)： 志賀 正武 ,  青山 正和 ,  鈴木 慎吾
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-222639
公開番号（公開出願番号）：特開2007-039157
出願日： 2005年08月01日
公開日（公表日）： 2007年02月15日
要約：

【課題】 搬送経路16,18に存在する全ての基板を同時に搬送することが可能な搬送装置を提供する。【解決手段】 被処理基板を縦型保持するキャリア30と、キャリア30の第1搬送経路16および第2搬送経路18と、搬送経路16,18に沿って配設された、前記キャリア30の上部を非接触支持する支持装置45と、第1搬送経路16から第2搬送経路18にキャリア30を移載するため、キャリア30を昇降させる昇降装置40とを備え、前記支持装置45は、昇降装置40に同期して昇降可能とされている構成とした。【選択図】 図4

請求項（抜粋）：

被処理基板を縦型保持するキャリアと、 前記キャリアの第1搬送経路および第2搬送経路と、 前記第1搬送経路および前記第2搬送経路に沿って配設された、前記キャリアの上部を非接触支持する支持装置と、 前記第1搬送経路から前記第2搬送経路に前記キャリアを移載するため、前記第1搬送経路および前記第2搬送経路において前記キャリアを昇降させる昇降装置と、を備え、 前記支持装置は、前記昇降装置に同期して昇降可能とされていることを特徴とする搬送装置。

IPC (3件)：

B65G 49/06 ,  C23C 14/56 ,  H01L 21/677

FI (3件)：

B65G49/06 Z ,  C23C14/56 G ,  H01L21/68 A

Fターム (17件)：

4K029AA09 ,  4K029AA24 ,  4K029KA01 ,  5F031CA05 ,  5F031DA13 ,  5F031FA02 ,  5F031FA03 ,  5F031FA07 ,  5F031FA12 ,  5F031FA14 ,  5F031FA18 ,  5F031GA60 ,  5F031LA14 ,  5F031LA15 ,  5F031MA28 ,  5F031NA05 ,  5F031PA18

引用特許：

出願人引用 (4件)

• トレイ搬送式成膜装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-315870   出願人：アネルバ株式会社
• 特開昭63-024632
  
• 特開平2-207546
  
• 成膜装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-308546   出願人：シャープ株式会社