特許
J-GLOBAL ID：200903058021033360
露光装置及び方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
中島 淳
, 加藤 和詳
, 西元 勝一
, 福田 浩志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-036218
公開番号（公開出願番号）：特開2006-221068
出願日： 2005年02月14日
公開日（公表日）： 2006年08月24日
要約：
【課題】 装置コストを抑えつつ、2次元的に分布した各描画単位の光量を均一化して高精度な画像露光を行う。【解決手段】 空間光変調素子の光ビーム入射側の光路上に設けられた集光レンズ120の光出射面120Aにおける光軸Lの中心部に、集光レンズ120を透過するレーザ光の透過率を低下させるコーティング層121を設け、光軸中心部におけるレーザ光の光量(光強度)を低下させて光量分布が均一になるよう補正する。【選択図】 図9
請求項（抜粋）：
光ビームを出射する光源と、
画像情報に応じて光変調状態が変化する複数の画素部が2次元的に配列され、前記光源から前記複数の画素部に入射した光ビームを、前記画素部毎に変調する空間光変調素子と、
前記空間光変調素子の光ビーム入射側の光路上に設けられ、前記光源から出射された光ビームを透過させて前記複数の画素部に集光する集光光学系と、
前記空間光変調素子の光ビーム出射側の光路上に設けられ、空間光変調素子により変調されて出射された光ビームを透過させて感光材料の露光面に投影する投影光学系と、
前記光ビーム入射側及び前記光ビーム出射側のうちの少なくとも一方の光路上に設けられ、光ビームの光軸中心部における光量を低下させる光量低下手段と、
を有することを特徴とする露光装置。
IPC (2件)：
FI (4件)：
G03F7/20 501
, H01L21/30 519
, H01L21/30 515D
, H01L21/30 529
2H097BA02
, 2H097CA06
, 2H097EA01
, 2H097GB04
, 5F046AA25
, 5F046BA06
, 5F046CB08
, 5F046CB12
, 5F046CB18
, 5F046DA02
