特許
J-GLOBAL ID：200903058032132964

流動層ガス化方法及び設備

発明者：
松澤 克明

松澤 克明 について

, 
平田 哲也

平田 哲也 について

, 
須田 俊之

須田 俊之 について


出願人/特許権者：
株式会社IHI

株式会社IHI について


代理人 (1件)： 特許業務法人山田特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-207395
公開番号（公開出願番号）：特開2009-040887
出願日： 2007年08月09日
公開日（公表日）： 2009年02月26日
要約：
【課題】高いガス化効率で原料をガス化することができ、且つガス化処理すべき温度が異なる原料を1つの流動層ガス化設備でガス化できるようにする。【解決手段】チャーを燃焼させて流動媒体9を加熱する流動層燃焼炉1と、流動層燃焼炉1から導出される燃焼ガス6から流動媒体9を分離する分離器21と、分離器21で分離した流動媒体9を降下管23を介して導入すると共に原料31とガス化剤27を供給して流動層29により原料31をガス化する流動層ガス化炉2と、流動層ガス化炉2で原料31をガス化する際に生成したチャーと流動媒体とを流動層燃焼炉1に循環する供給流路と、を有する流動層ガス化方法であって、流動層ガス化炉2を複数のガス化装置22a,22bにより構成し、各ガス化装置22a,22bにおいて生成したガス化ガス32a,32bを別個に取り出すようにする。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
チャーを燃焼させて流動媒体を加熱する流動層燃焼炉と、 流動層燃焼炉から導出される燃焼ガスから流動媒体を分離する分離器と、 分離器で分離した流動媒体を降下管を介して導入すると共に原料とガス化剤を供給して流動層により原料をガス化する流動層ガス化炉と、 流動層ガス化炉で原料をガス化する際に生成したチャーと流動媒体とを流動層燃焼炉に循環する供給流路と、を有する流動層ガス化方法であって、 流動層ガス化炉を複数のガス化装置により構成し、各ガス化装置において生成したガス化ガスを別個に取り出すようにしたことを特徴とする流動層ガス化方法。
IPC (9件)：
C10J 3/00 ,  C10J 3/46 ,  C10J 3/48 ,  C10J 3/54 ,  C10J 3/56 ,  B09B 3/00 ,  C02F 11/10 ,  F23C 10/04 ,  F23C 10/10
FI (11件)：
C10J3/00 K ,  C10J3/46 K ,  C10J3/48 ,  C10J3/54 K ,  C10J3/56 ,  B09B3/00 302F ,  B09B3/00 302G ,  C02F11/10 Z ,  B09B3/00 303J ,  F23C10/04 ,  F23C10/10
Fターム (33件)：
3K064AA20 ,  3K064AB03 ,  3K064AC06 ,  3K064AD05 ,  3K064AD08 ,  3K064AF01 ,  3K064BA07 ,  3K064BA17 ,  3K064BA19 ,  3K064BA22 ,  3K064BB01 ,  4D004AA02 ,  4D004AA12 ,  4D004AC05 ,  4D004BA03 ,  4D004CA27 ,  4D004CA28 ,  4D004CB05 ,  4D004CB34 ,  4D004CC02 ,  4D004CC03 ,  4D004DA02 ,  4D004DA08 ,  4D059AA03 ,  4D059BB01 ,  4D059BB03 ,  4D059BB06 ,  4D059BB13 ,  4D059CA06 ,  4D059CC03 ,  4D059DA47 ,  4D059DA70 ,  4D059EB06
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 流動層ガス化システム
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-201826   出願人：石川島播磨重工業株式会社
審査官引用 (3件)

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