特許
J-GLOBAL ID：200903058040419407

現像液供給装置

発明者：
宮崎 南海雄

宮崎 南海雄 について


出願人/特許権者：
九州日本電気株式会社

九州日本電気株式会社 について


代理人 (1件)： 鈴木 章夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-033371
公開番号（公開出願番号）：特開2000-232059
出願日： 1999年02月10日
公開日（公表日）： 2000年08月22日
要約：
【要約】【課題】 ウェハ上に現像液を滴下して、ウェハ上のレジストを現像するための現像液供給装置において、現像液の不均一な供給によるレジストパターン寸法のばらつきを防止する。【解決手段】 水平状態に置かれたウェハWの上方に配設されて、平坦な底面14aに多数のノズル孔16が開口された円錐容器状のノズル14と、前記ノズル14内に現像液を供給するための現像液供給手段18,21,24と、ノズル14内を外気に開放しあるいは外気から密封するための手段19,22と、ノズル14内にガス圧を供給する手段20,23,26とを備える。ガス圧供給手段により供給されるガス圧を利用して、現像液供給手段によりノズル14内に供給されて溜められた現像液をノズル孔16から吐出してウェハWの表面上に滴下する。現像液はウェハの中心領域と周辺領域とで同時に突出されることになり、ウェハの中心領域と周辺領域との現像速度が等しくなり、現像されるレジストパターン寸法のばらつきが防止される。
請求項（抜粋）：
水平状態に置かれたウェハの表面上に現像液を供給するための装置であって、前記ウェハの上方に配設され、平坦な底面に多数のノズル孔が開口された円錐容器状のノズルを備えており、前記ノズルには、前記ノズル内に現像液を供給するための現像液供給手段と、前記ノズル内を外気に開放しあるいは外気から密封するための手段と、前記ノズル内にガス圧を供給する手段とが付設されていることを特徴とする現像液供給装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/30 502
FI (2件)：
H01L 21/30 569 C ,  G03F 7/30 502
Fターム (5件)：
2H096AA25 ,  2H096GA30 ,  2H096GA31 ,  5F046LA03 ,  5F046LA04
引用特許：
審査官引用 (3件)
  • 基板処理装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-169012   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 基板現像装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-203934   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
  • 特開平4-118074

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