特許
J-GLOBAL ID：200903058083531359

リソグラフ装置およびデバイス製造方法

発明者：
アルノ ヤン ブレーケル

アルノ ヤン ブレーケル について


出願人/特許権者：
エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ

エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ について


代理人 (4件)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  岩本 行夫 ,  吉田 裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-386748
公開番号（公開出願番号）：特開2004-172621
出願日： 2003年11月17日
公開日（公表日）： 2004年06月17日
要約：
【課題】リソグラフ装置およびデバイス製造方法を提供すること。【解決手段】液浸リソグラフィ装置において、基板テーブルと投影レンズとの間に透明プレートが設けられ、それにより、基準フレームを歪ませることになる力を投影レンズに付与している液体の流れを回避している。透明プレートは、基準フレームに取り付けられた位置センサに応答するアクチュエータ・システムによって、基準フレームに対して静止した状態に維持される。透明プレートは、液体の屈折率と同じ屈折率を有している。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
投影放射ビームを供給するための放射システムと、 所望のパターンに従って投影ビームをパターン化するべく機能するパターン化手段を支持するための支持構造と、 基板を保持するための基板テーブルと、 パターン化されたビームを基板の目標部分に投射するための投影システムと、 前記投影システムの最終エレメントと前記基板との間の空間に液体を充填するための液体供給システムとを備えたリソグラフ投影装置において、 前記投影システムと前記基板テーブルとの間に設けられ、かつ、前記投影システムから機械的に分離された透明プレートと、 前記透明プレートを前記投影システムに対して実質的に静止した状態に維持するための手段とを特徴とする装置。
IPC (2件)：
H01L21/027 ,  G03F7/20
FI (2件)：
H01L21/30 515D ,  G03F7/20 521
Fターム (4件)：
5F046BA03 ,  5F046CB19 ,  5F046CB24 ,  5F046DA27
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • 液浸型露光装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-121757   出願人：株式会社ニコン
  • 液浸式投影露光装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-296518   出願人：キヤノン株式会社
審査官引用 (2件)
  • 液浸型露光装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-121757   出願人：株式会社ニコン
  • 液浸式投影露光装置
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-296518   出願人：キヤノン株式会社

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