検査方法及び装置、リソグラフィ装置、リソグラフィ処理セル、並びに、デバイス製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：稲葉良幸 , 大貫敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-284915
公開番号（公開出願番号）：特開2009-200466
出願日： 2008年11月06日
公開日（公表日）： 2009年09月03日
要約：

【課題】回折スペクトルの情報を失わずにオーバレイを測定するために、より小さいターゲットで使用することができる放射を提供する放射源を提供する。【解決手段】放射が基板で反射した結果としての角度分解スペクトルを高開口数のレンズの瞳面で測定することによって、基板の特性を割り出す装置及び方法。特性は、角度及び波長に依存してよい。基板で反射する放射は、放射状に偏光する。【選択図】図4a

請求項（抜粋）：

基板の特性を測定するように構成されたスキャトロメータであって、放射ビームを提供するように構成された放射源と、高開口数のレンズと、前記基板の表面から複数の角度で反射した前記放射ビームの角度分解スペクトルを検出するように構成された検出器と、を備え、前記放射源が前記放射ビームを放射状に偏光させるように構成されるスキャトロメータ。

IPC (4件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 , G01B 11/00 , G01N 21/956

FI (6件)：

H01L21/30 525F , H01L21/30 525G , G03F7/20 521 , G01B11/00 G , H01L21/30 514E , G01N21/956 A

Fターム (49件)：

2F065AA20 , 2F065AA21 , 2F065BB02 , 2F065BB18 , 2F065CC19 , 2F065CC25 , 2F065EE00 , 2F065FF48 , 2F065FF49 , 2F065GG24 , 2F065HH04 , 2F065HH08 , 2F065HH12 , 2F065HH13 , 2F065JJ03 , 2F065JJ08 , 2F065JJ09 , 2F065JJ26 , 2F065LL02 , 2F065LL05 , 2F065LL22 , 2F065LL30 , 2F065LL32 , 2F065LL34 , 2F065LL42 , 2F065LL46 , 2F065LL67 , 2F065QQ17 , 2F065QQ23 , 2F065QQ25 , 2G051AA51 , 2G051AB02 , 2G051BA11 , 2G051BB01 , 2G051BB11 , 2G051CA01 , 2G051CB01 , 2G051CB06 , 2G051CC07 , 2G051CC11 , 2G051CC15 , 5F046AA17 , 5F046FA01 , 5F046FA06 , 5F046FA09 , 5F046FB04 , 5F046FB06 , 5F046FB12 , 5F046FB13

引用特許：

審査官引用 (4件)

角度分解した分光リソグラフィの特徴付けの方法および装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2005-235188 出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
薄膜構造の特性評価を含む、偏光解析、反射光測定および散乱光測定のための干渉計法
公報種別：公表公報出願番号：特願2004-534816 出願人：ザイゴコーポレーション
放射偏光光学構造及びそれを有するマイクロリソグラフィ投影露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-271288 出願人：カール・ツアイス・スティフツング

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