特許
J-GLOBAL ID：200903058107898194
還元鋳造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
綿貫 隆夫
, 堀米 和春
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-294478
公開番号（公開出願番号）：特開2006-102791
出願日： 2004年10月07日
公開日（公表日）： 2006年04月20日
要約：
【課題】 鋳造金型のキャビティに効率的に還元性物質を導入して、効果的な還元鋳造を可能にするとともに、鋳造工程時間の短縮を図り、効率的な鋳造を可能にする。【解決手段】 真空装置26により鋳造金型20のキャビティ20aを減圧し、鋳造金型20のキャビティ20aに溶湯34の表面の酸化被膜を還元する還元性物質を導入して還元性物質により溶湯の表面の酸化被膜を還元しつつ、前記キャビティ20aに溶湯34を充填して鋳造する還元鋳造方法において、前記キャビティ20aに還元性物質を導入する操作と、前記キャビティ20aを減圧する操作とを、時間的に重複させて行い、前記キャビティ20aを減圧する操作を終了した後これに引き続いて、もしくは減圧する操作に時間的に重複して、前記キャビティ20aに溶湯34を充填開始する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
真空装置により成形型のキャビティを減圧して成形型のキャビティに溶湯の表面の酸化被膜を還元する還元性物質を導入し、還元性物質により溶湯の表面の酸化被膜を還元しつつ前記キャビティに溶湯を充填して鋳造する還元鋳造方法において、
前記キャビティに還元性物質を導入する操作と、前記キャビティを減圧する操作とを、時間的に重複させて行い、
前記キャビティを減圧する操作を終了した後これに引き続いて、もしくは減圧する操作に時間的に重複して、前記キャビティに溶湯を充填開始することを特徴とする還元鋳造方法。
IPC (4件)：
B22D 27/18
, B22D 18/04
, B22D 18/06
, B22D 21/04
B22D27/18 Z
, B22D18/04 K
, B22D18/06 509L
, B22D21/04 A
出願人引用 (1件)
審査官引用 (7件)
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