特許
J-GLOBAL ID：200903058124781950
微細パターン形成体およびその製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
金山 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-319129
公開番号（公開出願番号）：特開2005-084561
出願日： 2003年09月11日
公開日（公表日）： 2005年03月31日
要約：
【課題】一般的な微細パターンが形成された微細パターン形成体を提供すること、およびそのような製品の製造を可能にする微細パターン形成体の製造方法を提供することを課題とするものである。【解決手段】微細成型用型と基材の間に離型剤を配合した電離放射線硬化性樹脂組成物を適用し、電離放射線を照射した後、微細成型用型を剥離することにより、基材2上に、前記電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物から構成され、幅が1μm以下で、かつ、高さ/幅が1以上、より好ましくは3以上、最も好ましくは5以上の多数の凸部3aが配列した微細パターン層3を積層して微細パターン形成体を得ることができた。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
樹脂を主体として構成され、少なくとも表面近傍に離型剤を含有しており、幅が1μm以下で、かつ、高さ/幅が1以上の多数の凸部が配列した微細パターン層が基材上に積層されていることを特徴とする微細パターン形成体。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (12件)：
2H049AA03
, 2H049AA07
, 2H049AA13
, 2H049AA33
, 2H049AA37
, 2H049AA39
, 2H049AA41
, 2H049AA55
, 2H049AA60
, 2H049CA05
, 2H049CA15
, 2H049CA28
出願人引用 (1件)
審査官引用 (5件)
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