特許
J-GLOBAL ID：200903058140551817

洗浄装置

発明者：
神高 典明

神高 典明 について

, 
近藤 洋行

近藤 洋行 について


出願人/特許権者：
株式会社ニコン

株式会社ニコン について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-218294
公開番号（公開出願番号）：特開平10-064862
出願日： 1996年08月20日
公開日（公表日）： 1998年03月06日
要約：
【要約】【課題】 凹凸がある物体表面の洗浄においても洗浄されにくい部分の発生を防止することや、物体上に形成された薄膜や微細構造を破壊することなく物体表面を洗浄することが可能であり、例えばレチクルの洗浄を十分に行うことができる洗浄装置を提供すること。【解決手段】 洗浄対象物201の表面に付着した異物を除去することにより洗浄を行う洗浄装置において、前記表面に結露による液体の膜を形成する液膜形成機構202、203、204、205、221、222、223と、洗浄対象面に向けてパルス光210を照射するパルス光照射機構とを備え、前記液膜形成機構により液膜を形成した状態にて、洗浄対象面に前記パルス照射機構によりパルス光を照射して前記液膜を蒸発させることにより前記異物を除去することを特徴とする洗浄装置。
請求項（抜粋）：
洗浄対象物の表面に付着した異物を除去することにより洗浄を行う洗浄装置において、前記表面に結露による液体の膜を形成する液膜形成機構と、洗浄対象面に向けてパルス光を照射するパルス光照射機構とを備え、前記液膜形成機構により液膜を形成した状態にて、洗浄対象面に前記パルス照射機構によりパルス光を照射して前記液膜を蒸発させることにより前記異物を除去することを特徴とする洗浄装置。
IPC (4件)：
H01L 21/304 341 ,  B08B 3/10 ,  B23Q 11/00 ,  G03F 1/08
FI (4件)：
H01L 21/304 341 D ,  B08B 3/10 Z ,  B23Q 11/00 Z ,  G03F 1/08 X
引用特許：
審査官引用 (6件)
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