特許
J-GLOBAL ID:200903058229991934
印刷方法および印刷装置
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (3件):
稲岡 耕作
, 岡本 寛之
, 川崎 実夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2005-321187
公開番号(公開出願番号):特開2007-125817
出願日: 2005年11月04日
公開日(公表日): 2007年05月24日
要約:
【課題】シリコーンブランケットの表面に、塗布性の安定した均一なインキの塗布面を形成することができ、転写性を向上させてインキのパイリングを防止でき、さらには、被印刷体の大型化にも対応することのできる、印刷方法、および、その印刷方法に用いられる印刷装置を提供すること。【解決手段】スリットダイコータ4により、シリコーンブランケット1の表面にインキ2の塗布面3が形成されるようにインキ2を塗布し、次いで、インキ2の塗布面3に、ガスノズル7から乾燥ガスを吹き付けた後、インキ2中の溶剤を、吸引ノズル10によって吸引する。その後、シリコーンブランケット1を、凹凸版12上に転動させて、インキ2の塗布面3を部分的に除去した後、残存するインキ2の塗布面3を基板14上に転写する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
シリコーンブランケットの表面の印刷領域において、前記シリコーンブランケットの軸線方向のすべての領域にわたってインキの塗布面が形成されるように、シリコーンブランケットの表面にインキを塗布する塗布工程、
前記シリコーンブランケットの表面に塗布されたインキを乾燥させる乾燥工程、
前記シリコーンブランケットの表面に形成されたインキの塗布面を、所定のパターンを有する凹版または凸版に押圧することにより、前記凹版または前記凸版と接触した部分のインキを、前記シリコーンブランケットの表面から除去する除去工程、
前記シリコーンブランケットの表面において、除去されずに残存したインキを、被印刷体に転写する転写工程
を備えていることを特徴とする、印刷方法。
IPC (4件):
B41M 1/02
, B41F 17/14
, G02F 1/133
, G02B 5/20
FI (4件):
B41M1/02
, B41F17/14 E
, G02F1/1335 505
, G02B5/20 101
Fターム (18件):
2H048BA02
, 2H048BA43
, 2H048BA55
, 2H048BB02
, 2H048BB42
, 2H091FA02Y
, 2H091FB02
, 2H091FB12
, 2H091FC12
, 2H091FC29
, 2H091FD04
, 2H091LA12
, 2H091LA15
, 2H113AA01
, 2H113AA04
, 2H113BB09
, 2H113BB22
, 2H113CA17
引用特許:
出願人引用 (1件)
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画像形成法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-217286
出願人:光村印刷株式会社
審査官引用 (8件)
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印刷機
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-013446
出願人:光村印刷株式会社
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パターン部材の製造方法及び製造装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2003-103900
出願人:富士写真フイルム株式会社
-
特開平4-059253
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