プラズマ処理装置およびプラズマ処理装置の高周波特性測定方法

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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：宮田金雄 , 高瀬彌平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-017002
公開番号（公開出願番号）：特開2004-228460
出願日： 2003年01月27日
公開日（公表日）： 2004年08月12日
要約：

【課題】高周波特性を精度良く測定することのできるプラズマ処理装置、特にプラズマ発生中の高周波特性を精度良く測定することのできるプラズマ処理装置を得る。【解決手段】処理室内に設置された電極に高周波電力を供給する高周波電源と、電極と高周波電源とを接続する伝送線路間に高周波電力が透過するよう挿入された方向性結合器と、方向性結合器の電極と接続された端子と結合する端子に接続され、電極に所望の周波数の高周波信号を印加する可変周波数発生器と、方向性結合器の電極と接続された端子と結合する端子に接続され、可変周波数発生器から印加された高周波信号の電極からの反射波を測定する高周波特性検出器とを有することを特徴とする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

処理室内に設置された電極に高周波電力を供給する高周波電源と、前記電極と前記高周波電源とを接続する伝送線路間に高周波電力が透過するよう挿入された方向性結合器と、前記方向性結合器の前記電極に接続された端子と結合する端子に接続され、前記電極に所望の周波数の高周波信号を印加する可変周波数発生器と、前記方向性結合器の前記電極に接続された端子と結合する端子に接続され、前記可変周波数発生器から印加された高周波信号の前記電極からの反射波を測定する高周波特性検出器と、を有することを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (5件)：

H01L21/3065 , B01J19/08 , C23C16/505 , H01L21/205 , H05H1/00

FI (5件)：

H01L21/302 101B , B01J19/08 E , C23C16/505 , H01L21/205 , H05H1/00 A

Fターム (23件)：

4G075AA24 , 4G075AA30 , 4G075BC06 , 4G075CA25 , 4G075DA02 , 4G075EB42 , 4G075EC21 , 4G075EE02 , 4G075EE05 , 4G075FA12 , 4K030CA04 , 4K030FA01 , 4K030KA30 , 4K030LA15 , 5F004BB13 , 5F004BB14 , 5F004BC08 , 5F004CA03 , 5F004CA09 , 5F004CB07 , 5F045DP03 , 5F045EH19 , 5F045GB08

引用特許：

審査官引用 (4件)

同軸-方形導波管変換型自動負荷整合器及び整合方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-025963 出願人：株式会社ニッシン
半導体装置の製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-125578 出願人：九州日本電気株式会社
プラズマ処理装置と半導体装置の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-232084 出願人：株式会社東芝

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