特許

J-GLOBAL ID：200903058302287248

エアシャワーブース

発明者： 本田 実 ,  井坂 浩和
出願人/特許権者： 日本無機株式会社
代理人 (1件)： 清水 善▲廣▼ (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-160248
公開番号（公開出願番号）：特開2000-346419
出願日： 1999年06月07日
公開日（公表日）： 2000年12月15日
要約：

【要約】【課題】 半導体用クリーンルーム、病院の手術室、食品・バイオ等に関連する施設等々において、清浄室と前室の間に設置され、入室者及び製品等の物品をジェットエアで清浄化するためのエアシャワーブースに関するもので、特に、設置場所を水洗により清掃する食品工場に好適なものである。【解決手段】 ケーシング内にファン、フィルタを設置し、さらに該ケーシングの内壁面にジェットノズルを有する吹出口を設けて形成した送風ユニットの該内壁面側に、天井部材を接合するとともに、該天井部材から、前記送風ユニットの内壁面以外の各面に樹脂製カーテンを垂下させ、前記送風ユニットと、前記天井部材と、前記樹脂製カーテンとにより清浄室を形成する。

請求項（抜粋）：

ケーシング内にファン、フィルタを設置し、さらに該ケーシングの内壁面にジェットノズルを有する吹出口を設けて形成した送風ユニットの該内壁面側に、天井部材を接合するとともに、該天井部材から、前記送風ユニットの内壁面以外の各面に樹脂製カーテンを垂下させ、前記送風ユニットと、前記天井部材と、前記樹脂製カーテンとにより清浄室を形成したことを特徴とするエアシャワーブース。

IPC (2件)：

F24F 7/06 ,  B08B 5/02

FI (2件)：

F24F 7/06 C ,  B08B 5/02 Z

Fターム (10件)：

3B116AA46 ,  3B116AB51 ,  3B116BB22 ,  3B116BB32 ,  3B116BB72 ,  3B116CD33 ,  3B116CD34 ,  3L058BF04 ,  3L058BF07 ,  3L058BG01

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 特許第2645538号
  
• エアシャワ装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-049566   出願人：株式会社日立製作所
• エアシャワ装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-035064   出願人：株式会社日立製作所
• 低温クリーンブース
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-244234   出願人：日立冷熱株式会社
• 特開昭54-027770
  

引用文献：

審査官引用 (3件)

• 日本エアーテック株式会社カタログAC-200-050-941220, 19941220, 第14頁
• CLEAN ROOM カタログAC-128-030-890815, 19890815, 第9頁
• 日本エアーテック株式会社カタログAC-200-050-941220, 19941220, 第14頁