特許
J-GLOBAL ID：200903058341573177

真空成膜装置用部品とそれを用いた真空成膜装置、ターゲット装置および真空成膜方法

発明者：
佐藤 道雄

佐藤 道雄 について


出願人/特許権者：
株式会社東芝

株式会社東芝 について


代理人 (1件)： 外川 英明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-275888
公開番号（公開出願番号）：特開2002-088464
出願日： 2000年09月12日
公開日（公表日）： 2002年03月27日
要約：
【要約】【課題】 成膜工程中に真空成膜装置用部品、ターゲットおよびバッキングプレートに付着する成膜材料の剥離、溶射膜そのものの剥離、さらには付着物からの粒子の脱落を安定かつ有効に防止すると共に、クリーニングなどに伴う成膜コストの増加を抑制する。【解決手段】 部品基体と、前記部品基体表面に形成された溶射膜を有し、前記溶射膜は、基体表面部に隣接した基本膜組成Aと前記溶射膜表面部の基本膜組成Bを有すると共に、前記基本膜組成Aと基本膜組成Bの間隙の少なくとも一部に傾斜組成を有することを特徴とする真空成膜装置用部品である。真空成膜装置は、被成膜試料保持部、成膜源保持部、防着部品などに、上述した真空成膜装置用部品を適用したものである。ターゲット装置は、ターゲット本体の非エロージョン領域やバッキングプレート本体の表面に、同様な溶射膜を形成したものである。
請求項（抜粋）：
真空成膜装置の構成部品であって、部品基体と、前記部品基体表面に形成された溶射膜を有し、前記溶射膜は、その膜厚方向に二種以上の基本膜組成を有し、少なくとも1組の隣り合う基本膜組成の間隙の少なくとも1部に傾斜組成を有することを特徴とする真空成膜装置用部品。
IPC (6件)：
C23C 14/00 ,  C23C 4/00 ,  C23C 14/34 ,  C23C 16/44 ,  H01L 21/203 ,  H01L 21/205
FI (6件)：
C23C 14/00 B ,  C23C 4/00 ,  C23C 14/34 C ,  C23C 16/44 J ,  H01L 21/203 Z ,  H01L 21/205
Fターム (46件)：
4K029BA17 ,  4K029BA60 ,  4K029BD01 ,  4K029BD02 ,  4K029CA01 ,  4K029CA03 ,  4K029CA05 ,  4K029CA06 ,  4K029DA10 ,  4K029DC01 ,  4K029DC03 ,  4K029DC20 ,  4K029DC21 ,  4K029JA01 ,  4K030BA01 ,  4K030GA02 ,  4K030KA12 ,  4K030KA47 ,  4K030LA15 ,  4K030LA18 ,  4K031AA04 ,  4K031AB02 ,  4K031AB03 ,  4K031AB08 ,  4K031CB10 ,  4K031CB11 ,  4K031CB12 ,  4K031CB21 ,  4K031CB36 ,  4K031CB37 ,  4K031DA02 ,  4K031FA01 ,  4K031FA10 ,  5F045AB30 ,  5F045BB15 ,  5F045EB03 ,  5F045EM09 ,  5F103AA02 ,  5F103AA08 ,  5F103BB01 ,  5F103BB33 ,  5F103BB60 ,  5F103DD28 ,  5F103DD30 ,  5F103HH03 ,  5F103LL14
引用特許：
審査官引用 (5件)
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