特許
J-GLOBAL ID:200903058361097932

型インサート及び型を形成するためのリソグラフ法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 田澤 博昭 ,  加藤 公延 ,  田澤 英昭 ,  濱田 初音
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-548351
公開番号(公開出願番号):特表2006-503738
出願日: 2003年10月03日
公開日(公表日): 2006年02月02日
要約:
本発明は、眼用レンズの製造に用いる型及び型インサートを製造するためのリソグラフ法を提供する。本発明は、特注眼用レンズをレンズ使用者に配達する方法に用いることができる。
請求項(抜粋):
基材を含む成形用途に用いるための曲面であって、 前記基材が、放射源に対して実質的に透明であって、成形面として用いる曲面を備えたコーティングを有しており、 前記曲面が、 (a)前記基材の第1の表面に放射線硬化堆積物を堆積させるステップと、 (b)前記第1の表面と反対側の前記基材の第2の表面を放射線を選択的に透過させて、前記放射線の前記堆積物内への進入により、現像した堆積物と現像されていない堆積物が得られるように前記堆積物を現像するステップとによって形成され、 前記曲面が、前記基材の表面から離間した前記現像された堆積物の表面であることを特徴とする曲面。
IPC (3件):
B29C 33/40 ,  G02C 7/02 ,  G02C 7/04
FI (3件):
B29C33/40 ,  G02C7/02 ,  G02C7/04
Fターム (9件):
4F202AA44 ,  4F202AH74 ,  4F202AJ03 ,  4F202AJ09 ,  4F202CA30 ,  4F202CB01 ,  4F202CD24 ,  4F202CD30 ,  4F202CK27
引用特許:
審査官引用 (3件)

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