特許
J-GLOBAL ID：200903058422125136

反射防止膜形成組成物

発明者：
河口 和雄

河口 和雄 について

, 
田中 正人

田中 正人 について

, 
下川 努

下川 努 について


出願人/特許権者：
ジェイエスアール株式会社

ジェイエスアール株式会社 について


代理人 (1件)： 岩見谷 周志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-344388
公開番号（公開出願番号）：特開2002-214777
出願日： 2001年11月09日
公開日（公表日）： 2002年07月31日
要約：
【要約】【課題】 反射防止効果が高く、インターミキシングを生じることがなく、解像度及び精度等に優れたレジストパターンを形成しうる反射防止膜形成組成物を提供する。【解決手段】 下記式(1)で示される構造単位を有する重合体及び溶剤を含有する反射防止膜形成組成物。【化1】[式中、R1は水素原子以外の一価の原子又は基であり、nは0〜4の整数である。ただし、nが2〜4のときには複数のR1は同一でも異なっていてもよい。R2及びR3は独立に一価の原子もしくは基である。Xは二価の基である。]
請求項（抜粋）：
) 下記式(1):【化1】[式中、R1は水素原子以外の一価の原子又は基であり、nは0〜4の整数である。ただし、nが2〜4のときには複数のR1は同一でも異なっていてもよい。R2及びR3は独立に一価の原子もしくは基である。Xは二価の基である。]で示される構造単位を有する重合体及び溶剤を含有することを特徴とする反射防止膜形成組成物。
IPC (7件)：
G03F 7/004 506 ,  C08F 8/28 ,  C08F290/04 ,  C08F299/02 ,  G02B 1/11 ,  G03F 7/11 503 ,  H01L 21/027
FI (7件)：
G03F 7/004 506 ,  C08F 8/28 ,  C08F290/04 ,  C08F299/02 ,  G03F 7/11 503 ,  G02B 1/10 A ,  H01L 21/30 574
Fターム (40件)：
2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025DA34 ,  2H025DA40 ,  2K009AA04 ,  2K009BB04 ,  2K009CC21 ,  2K009DD02 ,  4J027AH00 ,  4J027BA04 ,  4J027BA05 ,  4J027BA07 ,  4J027BA13 ,  4J027BA14 ,  4J027BA20 ,  4J027CC05 ,  4J027CD10 ,  4J100AB00Q ,  4J100AB02Q ,  4J100AB03Q ,  4J100AB07Q ,  4J100AG04Q ,  4J100AL03Q ,  4J100AL09Q ,  4J100AL10Q ,  4J100AL62Q ,  4J100AL75Q ,  4J100AM02Q ,  4J100AM03Q ,  4J100AM15Q ,  4J100AQ26Q ,  4J100AR09P ,  4J100BA03Q ,  4J100BA14Q ,  4J100BB01Q ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100CA31 ,  4J100HA56 ,  5F046PA07
引用特許：
審査官引用 (2件)
  • 反射防止膜形成組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-325670   出願人：ジェイエスアール株式会社
  • 反射防止コーティング組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-000065   出願人：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション

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